[实用新型]具有周期性凹凸纹路的淡化指纹结构与防眩结构及其应用有效
| 申请号: | 201120307141.X | 申请日: | 2011-08-22 |
| 公开(公告)号: | CN202256732U | 公开(公告)日: | 2012-05-30 |
| 发明(设计)人: | 廖宏荣;张颖岳;何宜津 | 申请(专利权)人: | 华锦光电科技股份有限公司 |
| 主分类号: | G02B5/02 | 分类号: | G02B5/02;G02B1/10;G02F1/133;G06F3/041 |
| 代理公司: | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人: | 董彬 |
| 地址: | 台北县中*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 具有 周期性 凹凸 纹路 淡化 指纹 结构 及其 应用 | ||
1.一种淡化指纹结构,应用于具有画素阵列的一触控显示区上,该触控显示区对应一屏幕分辨率,其特征在于,该淡化指纹结构包括透光基材以及位于该透光基材的至少一表面上的凹凸纹路,其中该凹凸纹路具有一纹路分辨率,该纹路分辨率大于该屏幕分辨率,且该纹路分辨率与该屏幕分辨率为非关联性倍率关系。
2.如权利要求1所述的淡化指纹结构,其特征在于,该凹凸纹路包括由多条一维纹路阵列彼此排列成的二维阵列,且相邻的任两该一维纹路阵列成平行错位配置。
3.如权利要求2所述的淡化指纹结构,其特征在于,每一该一维纹路阵列包括多个纹路单元,且每一该纹路单元包括至少一凸出部分与相邻的凹入部分。
4.如权利要求3所述的淡化指纹结构,其特征在于,任两该纹路单元的凸出部分的一长、一宽或一倾斜角度相同或相异。
5.如权利要求3所述的淡化指纹结构,其特征在于,任一该凸出部分与相邻的该凹入部分的工作周期与该纹路分辨率的倒数一致。
6.如权利要求3所述的淡化指纹结构,其特征在于,该凸出部分与相邻的该凹入部分的高度差介于0.5至30微米。
7.如权利要求2所述的淡化指纹结构,其特征在于,该画素阵列包括彼此平行的多条数据线以及彼此平行的多条扫描线,该些数据线与该些扫描线交错,任一该一维纹路阵列的一纹路单元排序方向平行任一该数据线或是任一该扫描线。
8.如权利要求2所述的淡化指纹结构,其特征在于,该画素阵列包括彼此平行的多条数据线以及彼此平行的多条扫描线,该些数据线与该些扫描线交错,任一该一维纹路阵列的一纹路单元排序方向与任一该数据线或是任一该扫描线成一不为0的夹角。
9.如权利要求1所述的淡化指纹结构,其特征在于,还包括具有多个可绕射光线的光栅点的图样区。
10.一种防眩结构,应用于具有画素阵列的一显示区上,该显示区对应一画素周期,其特征在于,该防眩结构包括透光基材以及位于该透光基材的至少一表面上的凹凸纹路,其中该凹凸纹路包括由多条一维纹路阵列彼此排列成的二维阵列,每一该一维纹路阵列包括多个纹路单元,且每一该纹路单元包括至少一凸出部分与相邻的凹入部分,每一该凸出部分与相邻的该凹入部分对应一工作周期,该些工作周期相等并小于该画素周期。
11.如权利要求10所述的防眩结构,其特征在于,相邻的任两该一维纹路阵列成平行错位配置。
12.如权利要求10所述的防眩结构,其特征在于,任两该纹路单元的凸出部分的一长、一宽或一倾斜角度相同或相异。
13.如权利要求10所述的防眩结构,其特征在于,该画素阵列包括彼此平行的多条数据线以及彼此平行的多条扫描线,该些数据线与该些扫描线交错,任一该一维纹路阵列的一纹路单元排序方向平行任一该数据线或是任一该扫描线。
14.如权利要求10所述的防眩结构,其特征在于,该画素阵列包括彼此平行的多条信号电极以及彼此平行的多条扫描电极,该些信号电极与该些扫描电极交错,任一该一维纹路阵列的一纹路单元排序方向平行任一该信号电极或是任一该扫描电极。
15.如权利要求10所述的防眩结构,其特征在于,该画素阵列包括彼此平行的多条数据线以及彼此平行的多条扫描线,该些数据线与该些扫描线交错,任一该一维纹路阵列的一纹路单元排序方向与任一该数据线或是任一该扫描线成一不为0的夹角。
16.如权利要求10所述的防眩结构,其特征在于,该画素阵列包括彼此平行的多条信号电极以及彼此平行的多条扫描电极,该些信号电极与该些扫描电极交错,任一该一维纹路阵列的一纹路单元排序方向与任一该信号电极或是任一该扫描电极成一不为0的夹角。
17.如权利要求10所述的防眩结构,其特征在于,该凸出部分与相邻的该凹入部分的高度差介于0.5至30微米。
18.一种表面贴膜,包括权利要求1所述的淡化指纹结构。
19.如权利要求18所述的表面贴膜,其特征在于,还包括设置于邻近该淡化指纹结构的区域的图样区。
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