[实用新型]上颌窦提升测量尺无效
| 申请号： | 201120007551.2 | 申请日： | 2011-01-12 |
| 公开（公告）号： | CN202113183U | 公开（公告）日： | 2012-01-18 |
| 发明（设计）人： | 杨舸;张磊 | 申请（专利权）人： | 杨舸;张磊 |
| 主分类号： | A61C19/04 | 分类号： | A61C19/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100853 北京市海淀*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 上颌 提升 测量 | ||
【权利要求书】：
1.上颌窦提升测量尺，其组成包括主尺、游标、高度测量头、宽度测量头、深度测量尺、固定螺丝、移动滑轮；其特征是：主尺和游标上的高度测量头、宽度测量头和深度测量尺顶端呈扁平状，半圆形，边缘光滑、圆钝。
2.如权利要求1所述的上颌窦提升测量尺，其特征是：尺身正面观，其下端为高度测量头，主尺的高度测量头较游标的高度测量头短10毫米。
3.如权利要求1所述的上颌窦提升测量尺，其特征是：尺身正面观，其上端为宽度测量头，主尺的宽度测量头与游标的宽度测量头长度相等。
4.如权利要求1所述的上颌窦提升测量尺，其特征是：主尺高度测量头和主尺宽度测量头的外平面与刻度零点在同一延长线上。
5.如权利要求1所述的上颌窦提升测量尺，其特征是：游标的高度测量头的内平面、游标的宽度测量头的外平面和游标上的读数刻度在同一延长线上。
6.如权利要求1所述的上颌窦提升测量尺，其特征是：深度测量尺位于主尺背面的凹槽中，与游标固定为一体。
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