[发明专利]一种铜铟镓硒薄膜太阳能电池及其制备方法无效
| 申请号: | 201110426453.7 | 申请日: | 2011-12-19 |
| 公开(公告)号: | CN102496645A | 公开(公告)日: | 2012-06-13 |
| 发明(设计)人: | 余洲;晏传鹏;张勇;李珂;刘斌;赵勇 | 申请(专利权)人: | 西南交通大学;成都欣源光伏科技有限公司 |
| 主分类号: | H01L31/068 | 分类号: | H01L31/068;H01L31/032;H01L31/18 |
| 代理公司: | 成都博通专利事务所 51208 | 代理人: | 陈树明 |
| 地址: | 610031 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 铜铟镓硒 薄膜 太阳能电池 及其 制备 方法 | ||
1.一种铜铟镓硒(CIGS)薄膜太阳能电池,依次由以下各层构成:
透明电极层、ZnO窗口层、n型CIGS光吸收层、CIGS自掺杂同质p-n结,p型CIGS光吸收层、金属背电极层和衬底;且:
所述的n型CIGS光吸收层为Cu1+x(In0.7-yGa0.3+y)Se2-z薄膜,0<x≤0.15,0≤y≤0.05,0<z≤0.15;
所述的p型CIGS光吸收层为Cu1-m(In0.7-nGa0.3+n)Se2+p薄膜,0<m≤0.15,0≤n≤0.05,0<p≤0.15;
所述的CIGS自掺杂同质p-n结为:在获得p型CIGS光吸收层后,衬底温度为400℃~600℃、射频磁控溅射Cu(In0.7Ga0.3)Se2靶材获得n型CIGS光吸收层时,p型CIGS光吸收层和n型CIGS光吸收层界面载流子复合形成的同质p-n结。
2.一种制备权利要求1所述的铜铟镓硒(CIGS)薄膜太阳能电池的方法,其步骤为:
(1)、金属背电极层的制备:在衬底表面直流磁控溅射金属Mo,即在衬底上沉积得到Mo背电极层;
(2)、p型CIGS光吸收层的制备:在Mo背电极层表面射频磁控溅射Cu(In0.7Ga0.3)Se2靶材,获得Cu1-m(In0.7-nGa0.3+n)Se2+p薄膜(0<m≤0.15,0≤n≤0.05,0<p≤0.15),该薄膜即p型CIGS光吸收层;
(3)、n型CIGS光吸收层及CIGS自掺杂同质p-n结的制备:
在p型CIGS光吸收层表面,射频磁控溅射Cu(In0.7Ga0.3)Se2靶材,衬底温度为400℃~600℃,功率密度2.0~5.0W/cm2,工作气压0.1~3.0Pa,沉积得到厚度为50~150nm的Cu1+x(In0.7-yGa0.3+y)Se2-z薄膜(0<x≤0.15,0≤y≤0.05,0<z≤0.15)即n型CIGS光吸收层;
在n型CIGS光吸收层沉积的过程中,p型CIGS光吸收层和n型CIGS光吸收层界面载流子复合形成CIGS自掺杂同质p-n结;
(4)、ZnO窗口层的制备:在n型CIGS光吸收层表面,射频磁控溅射ZnO陶瓷靶,沉积50~150nm的ZnO层,溅射时的工作气体为含3-10%(V/V)O2的Ar气体;
(5)透明电极层及引线的制备:在ZnO窗口层表面,射频磁控溅射掺杂铝的氧化锌陶瓷靶,衬底温度为室温~200℃,沉积0.6~1.2μm薄膜,即得透明电极层;再在透明电极层上溅射制备栅状金属引线,即得。
3.根据权利要求2所述的制备铜铟镓硒(CIGS)薄膜太阳能电池的方法,其特征在于,所述的步骤(1)中溅射的工艺参数是:气压为0.05~0.50Pa,功率密度为1.0~3.5W/cm2,沉积时间为5~20分钟。
4.根据权利要求2所述的制备铜铟镓硒(CIGS)薄膜太阳能电池的方法,其特征在于,所述的步骤(2)中溅射的工艺参数是:衬底温度为室温~300℃,功率密度2.0~5.0W/cm2,工作气压为0.1~3.0Pa;获得Cu1-m(In0.7-nGa0.3+n)Se2+p薄膜的厚度为1.5~2μm。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





