[发明专利]一种氧化铈基质的玻璃镜片抛光粉制备方法

说明书

技术领域

 本发明涉及一种玻璃镜片抛光粉制备方法，尤其是涉及一种氧化铈基质的玻璃镜片抛光粉制备方法。

背景技术

目前市场上所销售的玻璃抛光粉大多浓度低，内混得抛光材料粒度比较粗糙, 分布也不合理,因此，抛光效果不是很明显；而且抛光速度比较慢,有时会容易产生划伤和光道 ；并且使用寿命也比较短，不适用于各种不同材质的抛光，特别是光学玻璃镜片和液晶屏幕等精密光学仪器，适用范围小。另外，在抛光过程中, 附着力弱, 不易清洗, 不具有一定的悬浮性，容易沉降；有异味，对环境也有一定的影响。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种具有较强亲和性并且能够适用于精密光学仪器表面抛光的一种氧化铈基质的玻璃镜片抛光粉制备方法。

为了解决上述技术问题，本发明是通过以下技术方案实现的。

一种氧化铈基质的玻璃镜片抛光粉制备方法，包括以下步骤：

a、将杂质含量小于等于0.5%的碳酸铈在高温下进行煅烧，得到氧化铈粉末；

b、将氧化铈粉末通过气流进行粉碎；

c、在粉碎后的氧化铈粉末内添加氧化铝进行混合，得到氧化铈抛光粉。

进一步地，所述步骤a中煅烧温度为500-1100℃，所得到的氧化铈粉末比表面积为1g/m²-40g/m²。

再进一步地，所述步骤b中氧化铈粉末粉碎后的中值粒径D50为0.5um-10um。

更进一步地，所述步骤c中氧化铝成分比重为5%-95%。

与现有技术相比，本发明的有益之处是：这种氧化铈基质的玻璃镜片抛光粉制备方法所制备的玻璃镜片抛光粉粒度细，分布均匀，抛光效果比较明显，而且抛光速度快，能够适应光学玻璃镜片和液晶屏幕等精密光学表面的抛光，对环境无污染，使用寿命也很长。

具体实施方式：

下面结合附图及具体实施方式对本发明进行详细描述：

一种氧化铈基质的玻璃镜片抛光粉制备方法，包括以下步骤：

a、将杂质含量小于等于0.5%的碳酸铈在高温下进行煅烧，得到氧化铈粉末；

b、将氧化铈粉末通过气流进行粉碎；

c、在粉碎后的氧化铈粉末内添加氧化铝进行混合，得到氧化铈抛光粉。

所述步骤a中煅烧温度为500-1100℃，温度太低无法完全形成氧化铈且晶体形状不好，温度过高则会导致产品硬度过高，不易粉碎，同时会对被抛物体表面形成较大的划伤；步骤a中所得到的氧化铈粉末比表面积为1g/m²-40g/m²，比较大，抛光速度比较快。

所述步骤b中氧化铈粉末粉碎后的中值粒径D50为0.5um-10um，粒度细，不易对被抛光物表面产生划伤；所述步骤c中氧化铝成分比重为5%-95%，使得抛光效果更加明显，与玻璃有较强的亲和性。

这种氧化铈基质的玻璃镜片抛光粉主要用于光学玻璃镜片和液晶屏等精密光学表面抛光，在斜轴精磨抛光机获得的切削率为50-110mg/3min，抛光效率比较高。

需要强调的是：以上仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，凡是依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。