[发明专利]修复中间转印部件的方法及装置有效

专利信息
申请号: 201110393608.1 申请日: 2011-12-01
公开(公告)号: CN102540824B 公开(公告)日: 2017-10-10
发明(设计)人: D·M·皮特兰托尼;童玉华;吴劲;F·梅扎泰斯塔;J·J·比恩;H·罗梅曼恩;J·H·何克 申请(专利权)人: 施乐公司
主分类号: G03G15/16 分类号: G03G15/16;C08J7/04
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙)11371 代理人: 李丙林,曹桓
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 修复 中间 部件 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种用于修复中间转印部件的方法,其包括:

用一种醇使所述中间转印部件的外表面脱污;

将聚合物、导电颗粒和溶剂的混合物涂布于无缝中间转印部件的所述外表面上;以及

加热所述混合物以在所述中间转印带的所述外表面上形成表层;

其中所述聚合物选自氟化聚合物,并且

其中所述无缝中间转印带包括选自聚酰亚胺、聚酰胺、聚酰胺酰亚胺、聚醚酰亚胺、聚碳酸酯、聚砜、聚醚砜、聚苯基砜、聚酯、聚苯硫醚及其混合物的聚合物。

2.权利要求1的方法,其中所述导电颗粒选自炭黑、石墨、乙炔黑、氟化炭黑、金属氧化物、掺杂的金属氧化物、聚苯胺、聚噻吩、聚乙炔、聚(对亚苯基亚乙烯基)、聚对苯硫醚、吡咯类、聚吲哚、聚芘、聚咔唑、聚薁、聚氮杂、聚(氟)、聚萘及其混合物。

3.权利要求1的方法,其中所述表层的厚度为约10微米至约150微米。

4.权利要求1的方法,其中所述表层的表面电阻率为约109欧姆/平方至约1013欧姆/平方。

5.权利要求1的方法,其中经修复的中间转印部件的体积电阻率为约109欧姆-厘米至约1013欧姆-厘米。

6.权利要求1的方法,其中所述涂布包括流涂。

7.一种用于权利要求1的方法的修复中间转印部件的装置,其包括:

用于旋转和张紧中间转印带的驱动结构;

用于将涂覆液施用于所述中间转印带的流涂分配部件,其中所述流涂分配部件可平行和垂直于所述中间转印带的旋转方向而移动。

8.一种用于修复中间转印部件的方法,其包括:

用异丙醇使所述中间转印部件的外表面脱污;

将聚合物、导电颗粒和溶剂的混合物流涂于无缝中间转印部件的外表面上;以及

加热所述混合物以在所述中间转印带的外表面上形成表层,其中所述表层的厚度为约10微米至约150微米,表面电阻率为约109欧姆/平方至约1013欧姆/平方;

其中所述聚合物选自氟化聚合物,并且

其中所述无缝中间转印带包括选自聚酰亚胺、聚酰胺、聚酰胺酰亚胺、聚醚酰亚胺、聚碳酸酯、聚砜、聚醚砜、聚苯基砜、聚酯、聚苯硫醚及其混合物的聚合物。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于施乐公司,未经施乐公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110393608.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top