[发明专利]一种全背电极铝背结太阳电池制作工艺无效

专利信息
申请号: 201110390840.X 申请日: 2011-11-30
公开(公告)号: CN102437239A 公开(公告)日: 2012-05-02
发明(设计)人: 沈辉;刘超;梁齐兵 申请(专利权)人: 中山大学
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 广州新诺专利商标事务所有限公司 44100 代理人: 罗毅萍
地址: 510006 广东省广州市番禺*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 电极 铝背结 太阳电池 制作 工艺
【说明书】:

技术领域

发明属于太阳电池技术领域,具体为一种全背电极铝背结太阳电池的制作工艺。

背景技术

全背电极太阳电池由于没有前电极的遮光,因此可以极大地提高太阳电池的光吸收率进而提高太阳电池效率。Sunpower的全背电极硼背结太阳电池已经量产多年,并获得20%以上的稳定效率。但由于硼掺杂的工艺较为复杂,而且需要对现有设备进行改造,因此研发和生产的成本较高,铝背结可以通过印刷铝层并通过烧结形成n+/p的结构,因此工艺相对简单。现有的全背极铝背结太阳电池(BCABJ)在制作过程中大量采用光刻的方法,不但工艺复杂,成本高昂,而且同现有的太阳电池生产工艺及设备不兼容,难于尽快用于产业。

发明内容

本发明的目的是克服现有技术的不足,提供了一种全背电极铝背结太阳电池的制作工艺,该制作工艺流程简单,避免使用光刻和多次的化学腐蚀流程,激光的可控性好,生产速度快,同现有的工艺及设备兼容度高,只需要在现有的生产工艺中引入激光即可进行生产,易于产业化。

为了达到上述技术目的,本发明是按以下技术方案实现的:

本发明所述的一种全背电极铝背结太阳电池制作工艺,其步骤是:

(1)选用n型单晶硅片并对n型单晶硅片制绒;

(2)在单晶硅片前后表面制备n+层;

(3)制备双面SiNx减反射薄膜;

(4)通过激光刻去背面SiNx和n+层,并去除激光工艺带来的机械损伤通过激光开槽选择性刻去SiNx和n+层,。

(5)制备银电极和铝电极及银铝焊接点;

(6)通过烧结形成铝背结和银电极的欧姆接触。

作为上述技术的进一步改进,上述步骤(2)中在单晶硅片前后表面制备n+层具体是:将制绒后的硅片放入管式扩散炉中,进行双面磷扩散,磷源为三氯氧磷,扩散温度约为800-900℃,并通过二次清洗去除扩散工艺中产生的磷硅玻璃。

在本发明中,上述步骤(3)中制备SiNx减反射薄膜是通过PECVD或磁控溅射制备SiNx减反射薄膜,具体是:将制绒后的硅片在PECVD或磁控溅射中进行双面镀氮化硅,氮化硅的厚度约为60-75nm。

在本发明中,上述步骤(5)中用丝网印刷在硅片背面激光刻去氮化硅和n+层的位置印刷银铝焊接点和铝电极,在无激光刻去的地方印刷银电极。

在本发明中,上述步骤(6)在烧结炉中进行烧结,烧结温度为890±2℃,形成铝背结和欧姆接触,以完成电池的制备。

与现有技术相比,本发明的有益效果是:

本发明所述的全背电极铝背结太阳电池制作工艺,该工艺通过激光来开槽及去除背面的n+层,然后印刷交指型电极,并通过烧结一次完成铝背结和电极金属化工艺。该工艺流程简单,避免使用光刻和多次的化学腐蚀流程,激光的可控性好,生产速度快,同现有的工艺及设备兼容度高,只需要在现有的生产工艺中引入激光即可进行生产,易于产业化。

附图说明

下面结合附图和具体实施例对本发明做详细的说明:

图1是本发明中全背电极铝背结太阳电池示意图;

图2是本发明所述的全背电极铝背结太阳电池制作工艺流程示意图。

具体实施方式

本发明所述的全背电极铝背结太阳电池制作工艺,其步骤是:

(1)选用n型单晶硅片1并对n型单晶硅片制绒,制成绒面2;

(2)在n型单晶硅片1前后表面制备n+层3;

(3)制备SiNx减反射薄膜4;

(4)通过激光开槽选择性刻去SiNx减反射薄膜4和n+层3并去除激光工艺带来的机械损伤;

(5)制备银电极5和铝电极6及银铝焊接点;

(6)通过烧结形成铝背结和银电极5的欧姆接触。

以下结合图1及图2具体说明本发明所述的全背电极铝背结太阳电池制作工艺过程:

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