[发明专利]低密度高分子基隔声降噪材料及其制备方法有效
| 申请号: | 201110318955.8 | 申请日: | 2011-10-20 |
| 公开(公告)号: | CN102501504A | 公开(公告)日: | 2012-06-20 |
| 发明(设计)人: | 郭少云;李姜;王星 | 申请(专利权)人: | 四川大学 |
| 主分类号: | B32B27/08 | 分类号: | B32B27/08;B32B27/18;B32B25/00;B32B15/08;B29C47/56;G10K11/168 |
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| 地址: | 610065 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 密度 高分子 基隔声降噪 材料 及其 制备 方法 | ||
1.一种低密度高分子基隔声降噪材料,其特征在于该隔声降噪材料由两种不同的高分子材料或高分子基复合材料以交替层状的结构叠合而成,材料中存在至少一层连续的层状界面。
2.根据权利1要求所述低密度高分子基隔声降噪材料,其特征在于组成该材料的两种高分子材料或高分子基复合材料具有不同的密度和模量,两者的密度比大于1.2,模量比大于1.2。
3.根据权利1或2要求所述低密度高分子基隔声降噪材料,其特征在于高分子基体为聚氯乙烯、聚烯烃、尼龙、聚氨酯、橡胶等,密度和模量通过在高分子基体中添加填料或发泡剂来调节。
4.根据权利3要求所述低密度高分子基隔声降噪材料,其特征在于当使用填料或发泡剂时,需要在制备低密度高分子基隔声降噪材料之前将高分子基体和填料或发泡剂混合并造粒,必要时添加加工助剂。
5.根据权利4要求所述低密度高分子基隔声降噪材料,其特征是所添加的填料为碳酸钙、云母、硫酸钡、二氧化硅、硅酸盐、玻璃纤维、碳纤维等密度大于2克/立方厘米的无机物中的一种,添加量为10-200 份;所添加的发泡剂为偶氮二甲酰胺(AC)、偶氮二异丁腈(AIBN)、二亚硝基五次甲基四胺(DPT)和磺酰肼类发泡剂(OBSH)等中的一种或两种以上的混合物,添加量为0.2-5份,发泡剂发泡后形成的泡孔为开孔或闭孔。
6.制备权利要求1至5任一项权利要求所述低密度高分子基隔声降噪材料的方法,其特征将两种不同的高分子材料或高分子基复合材料分别投入微层共挤装置的两台挤出机(A、B)中,熔融塑化后,使两股熔体在分配器(C)中叠合,经过n个倍增器(D)的切割和叠合后,从出口模(E)流出,再经过三辊压延机(F)的压制和牵引机(G)的牵引,得到2(n+1)层的聚合物基交替层状隔声降噪材料,其中层状界面的数量为2(n+1)-1。
7.按照权利要求6所述的低密度高分子基隔声降噪材料制备方法,其特征在于两种不同的高分子材料或高分子基复合材料的厚度比通过调整两台挤出机的转速比进行调整,从而进一步调节隔声降噪材料的密度和模量。
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