[发明专利]无基线光环成像被动光学测距方法及装置无效
| 申请号: | 201110300605.9 | 申请日: | 2011-10-08 |
| 公开(公告)号: | CN102353353A | 公开(公告)日: | 2012-02-15 |
| 发明(设计)人: | 吕彦飞;董渊;李述涛;金光勇;张喜和 | 申请(专利权)人: | 长春理工大学 |
| 主分类号: | G01C3/00 | 分类号: | G01C3/00 |
| 代理公司: | 长春菁华专利商标代理事务所 22210 | 代理人: | 陶尊新 |
| 地址: | 130022 吉林*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 基线 光环 成像 被动 光学 测距 方法 装置 | ||
技术领域
本发明涉及一种无基线光环成像被动光学测距方法及装置,无需已知被测目标纵向或者横向尺寸即基线尺寸,即可利用光环成像对被测目标进行被动光学测距,属于无源被动光学测距技术领域。
背景技术
为了能够有效地避开敌方的电磁干扰,并且不被敌方察觉,高隐蔽性地将被测目标距离精确测量出来,在现有技术中有多种无源被动光学测距方法,如光环成像被动光学测距方法,实现测距的前提条件之一是已知被测目标上某一纵向或者横向尺寸L,将该尺寸L作为测距基线,见2006年7月Vol 136,No4.《航空计算技术》刊登的一篇作者为鞠传文等、题为“光学测距传感器的工程计算”的文章。测距装置为,望远系统1与分光镜2位于一个水平光轴上,光环成像系统3位于过分光镜2、与所述水平光轴相交的垂直光轴上,见图1所示,在光环成像系统3中,光棒4、漏斗反射镜5、透镜6光学同轴,光棒4自漏斗反射镜5中孔穿过,透镜6位于漏斗反射镜5反射方,见图2所示。测距方法为,自测距点O经望远系统1瞄准被测目标,将被测目标上A、B两点的连线作为基线,基线长度L已知;来自光源的平行光依次经光棒4、漏斗反射镜5两次反射后产生光环;该光环经透镜6后由分光镜2反射到望远系统1,同时由分光镜2折射,在无穷远处形成光环的虚像,被测目标上的基线位于该光环的虚像中,此时通过望远系统1观测被测目标,同时看到所述光环虚像,通过调整光环成像系统3中的光棒4来调整光环虚像的大小,使得其直径等于基线长度L,此时光环直径为2r,透镜6的物方设计焦距为f,测距张角θ≤5°,测距点O至被测目标上的基线的距离为待测距离D,D>>L,近似有:
由于D>>L,于是(1)式简化为:
由几何光学得到:
(3)式中f、2r均为已知量;
将(3)式、(2)式联立,经整理后得到:
从(4)式得到测距结果。
发明内容
现有技术其不足在于,当被测目标为陌生目标,测距方不掌握所观测到的被测目标上某两点间的距离,则无法实现测距,为了解决这一问题,我们发明了一种无基线光环成像被动光学测距方法及装置。
本发明之测距装置为,望远系统1与分光镜2位于一个水平光轴上,光环成像系统3位于过分光镜2、与所述水平光轴相交的垂直光轴上,其特征在于,在光环成像系统3中,光棒4、漏斗反射镜5、变焦接物镜7光学同轴,光棒4自漏斗反射镜5中孔穿过,变焦接物镜7位于漏斗反射镜5反射方,见图3所示。
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