[发明专利]阵列基板以及显示器件有效
| 申请号: | 201110299313.8 | 申请日: | 2011-09-30 |
| 公开(公告)号: | CN102629036A | 公开(公告)日: | 2012-08-08 |
| 发明(设计)人: | 李成;董学;陈东;木素真 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号: | G02F1/1343 | 分类号: | G02F1/1343;G02F1/1362 |
| 代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 100176 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 阵列 以及 显示 器件 | ||
技术领域
本发明属于液晶显示器技术领域,具体涉及一种阵列基板以及一种显示器件。
背景技术
随着电子技术的不断发展,液晶显示器已经成为常见的显示设备,广泛应用于手机、掌上电脑等便携式移动终端。目前,ADS(Advanced Super DimensionSwitch)等模式的液晶面板已经实现了宽视角的技术指标。
ADS是高级超维场转换技术(Advanced Super Dimension Switch)的简称,其通过同一平面内狭缝电极边缘所产生的电场以及狭缝电极层与板状电极层间产生的电场形成多维电场,使液晶盒内狭缝电极间、电极正上方所有取向液晶分子都能够产生旋转,从而提高了液晶工作效率并增大了透光效率。高级超维场开关技术可以提高TFT-LCD产品的画面品质,具有高分辨率、高透过率、低功耗、宽视角、高开口率、低色差、无挤压水波纹(push Mura)等优点。
现在,Pad等手持显示设备,在使用过程中经常需要旋转屏幕,当然在旋转屏幕时视角也在旋转,如果在视角旋转的过程中,图像品质有所变化,将会使用户产生不好的使用体验。对于各个方向视角的对称性,已经成为液晶显示器的一个更高的技术指标。
本发明人在实现本发明的过程中发现,现有技术至少存在以下问题:现有的ADS液晶面板包括公共电极和像素电极,中间隔有绝缘层,其中像素电极呈板状结构,公共电极呈并排的狭缝状结构,因此液晶分子偏转的方向单一,导致液晶显示器的视角对称性较差的技术问题。
发明内容
本发明实施例提供了一种阵列基板以及一种显示器件,解决了现有的液晶显示器的视角对称性较差的技术问题。
为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:
该阵列基板,包括公共电极和像素电极,在所述公共电极和所述像素电极之中,一个为网状结构,另一个为板状结构。
优选的,所述公共电极为网状结构,所述像素电极为板状结构。
优选的,所述网状结构的网格为正多边形。
优选的,所述网状结构的网格阵列与所述阵列基板的数据线成一定夹角,所述夹角小于等于10°。
优选的,所述夹角为5°。
优选的,所述网状结构的网格为正六边形或者正方形。
进一步,所述网状结构的电极覆盖在所述阵列基板的数据线上,或者,所述阵列基板的数据线将所述网状结构的电极分隔开。
该显示器件包括上述阵列基板。
与现有技术相比,本发明所提供的上述技术方案具有如下优点:以网状结构的公共电极与板状结构的像素电极为例,在公共电极与像素电极之间施加电压时,液晶分子会沿着公共电极的走向偏转。网状结构的每个网格都是一个多边形,多边形的每条边所对应的液晶分子,就会沿着这一条边的方向偏转,各个边所对应的液晶分子就形成多畴的像素结构,所以用户从每条边的方向观看到的图像都是相同的,从而解决了现有的液晶面板因为液晶分子偏转的方向单一,导致液晶显示器的视角对称性较差的技术问题。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明的实施例1所提供的阵列基板的公共电极的结构示意图;
图2为本发明的实施例1所提供的阵列基板的公共电极与像素电极的结构示意图;
图3为本发明的实施例1所提供的阵列基板施加电压时液晶分子的偏转示意图;
图4为本发明的实施例1所提供的阵列基板的不同视角的对比度模拟图;
图5为本发明的实施例1所提供的阵列基板的公共电极与数据线的结构示意图;
图6为本发明的实施例2所提供的阵列基板的公共电极与数据线的结构示意图;
图7为本发明的实施例3所提供的阵列基板的公共电极与液晶盒的结构示意图;
图8为本发明的实施例4所提供的阵列基板的公共电极的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有付出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
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