[发明专利]散热元件及散热元件的处理方法

权利要求书

1.一种散热元件，包括：

金属本体，其主要材质为铝，该金属本体的表面具有多个微纳米孔，该些微纳米孔的孔径小于300纳米。

2.如权利要求1所述的散热元件，其中该金属本体的材质为铝、或是铝合金。

3.如权利要求1所述的散热元件，其中该金属本体的表面形成有一金属氧化层，且该金属氧化层具有该些微纳米孔。

4.如权利要求3所述的散热元件，其中该金属氧化层的厚度小于15微米。

5.如权利要求3所述的散热元件，其中该金属氧化层的厚度为3微米至15微米。

6.如权利要求3所述的散热元件，其中该金属氧化层的厚度为5微米至10微米。

7.如权利要求3所述的散热元件，其中该金属氧化层的材质包括氧化铝、铝氧化合物或上述的组合。

8.如权利要求1所述的散热元件，其中该些微纳米孔的孔径为5纳米至300纳米。

9.如权利要求1所述的散热元件，其中该些微纳米孔的孔径为20纳米至80纳米。

10.如权利要求1所述的散热元件，其中该金属本体包括一底座以及连接于该底座的多个鳍片。

11.如权利要求1所述的散热元件，还包括多个纳米金属，填充于该些微纳米孔中。

12.如权利要求11所述的散热元件，其中该纳米金属的材质包括选自由镍、铜、钯、银、金、铂、钴、锡、铬、锌、铁、钼、镉、硒以及上述的合金中至少其中一者所组成的群组。

13.一种散热元件的处理方法，包括：

提供一金属本体，其主要材质为铝；

氧化该金属本体的表面；以及

进行一蚀刻制作工艺以在该金属本体的表面上形成多个微纳米孔，其中该些微纳米孔的孔径小于300纳米。

14.如权利要求13所述的散热元件的处理方法，其中氧化该金属本体的表面的方法包括使用硫酸、草酸或上述的组合所构成的水溶液将该金属本体的表面氧化。

15.如权利要求13所述的散热元件的处理方法，其中该蚀刻制作工艺所使用的蚀刻溶液包括硫酸、草酸、磷酸或其组合所构成的水溶液。

16.如权利要求13所述的散热元件的处理方法，还包括进行一电镀制作工艺以形成多个纳米金属，填充于该些微纳米孔中。