[发明专利]一种超低浴比染纱机的纱架装置

权利要求书

1.一种超低浴比染纱机的纱架装置，包括沙盘、吊杆和纱杆；沙盘上表面为圆盘状，沙盘下端为空腔结构，沙盘下端底部与染纱机的中心座连接，沙盘上表面设有沙盘出水孔、沙盘回水孔和吊杆孔座，吊杆孔座设置在沙盘中心上，纱杆固定在沙盘上表面的盘出水孔中，纱杆为空心的筒体结构；其特征在于：纱杆的筒体内设置有水鼓，水鼓为空心或者实心的柱状结构，纱杆与水鼓中心线相同，纱杆的空心内径与水鼓外径的比值为10∶7-9，纱杆的筒体上沿不同高度水平截面的圆周上均匀设有多个出水孔，纱杆筒体上同一纵截面上相邻两水平截面上的出水孔的中心间距相等或者不等。

2.根据权利要求1所述的超低浴比染纱机的纱架装置，其特征在于：所述沙盘下端底部为圆盘形，圆盘中心设有通孔，用于固定吊杆，圆盘沿两对称轴设有4个进水口，圆盘上相邻两进水口之间形成4个回水口，4个进水口均匀与多个沙盘出水孔连通，形成均匀的进水通道，4个回水口均匀与多个沙盘回水孔连通，形成均匀的回水通道。

3.根据权利要求1所述的超低浴比染纱机的纱架装置，其特征在于：所述纱杆内筒体的高度为1-12m。

4.根据权利要求3所述的超低浴比染纱机的纱架装置，其特征在于：对于纱杆内筒体的高度小于3m，纱杆筒体上同一纵截面上相邻两水平截面上的出水孔的中心间距相等。

5.根据权利要求3所述的超低浴比染纱机的纱架装置，其特征在于：对于纱杆内筒体的高度大于3m，纱杆筒体上同一纵截面上相邻两水平截面上的出水孔的中心间距不等。

6.根据权利要求5所述的超低浴比染纱机的纱架装置，其特征在于：将纱杆筒体按照高度分成3或5等份，每一等份上，纱杆筒体上同一纵截面上相邻两水平截面上的出水孔的中心间距相等，若将纱杆筒体按照高度分成3等份，由下到上顺序编号为第1、2、3等份，其中第1等份、第2等份和第3等份中纱杆3筒体上同一纵截面上相邻两水平截面上的出水孔的中心间距比值为1.2-1.5∶1∶0.5-0.8；若将纱杆筒体按照高度分成5等份，由下到上顺序编号为第1、2、3、4、5等份，其中第1等份、第2等份、第3等份、第4等份和第5等份中纱杆筒体上同一纵截面上相邻两水平截面上的出水孔的中心间距比值为1.5-1.7∶1.2-1.4∶1∶0.7-0.9∶0.4-0.6。