[发明专利]滤光器、滤光器的制造方法以及光设备

权利要求书

1.一种滤光器，其特征在于，包括：

具有支撑部的第一基板；

被所述支撑部支撑的第二基板；

设置在所述第一基板上的第一光学膜；

设置在所述第二基板上、与所述第一光学膜相对的第二光学膜；

设置在所述支撑部支撑所述第二基板的支撑面的整个区域上的第一接合膜；以及

设置在所述第二基板的被支撑面之中至少与所述支撑面的整个区域相对的区域上的第二接合膜，

所述第一基板和所述第二基板通过所述第一接合膜和所述第二接合膜在所述支撑部接合而固定。

2.根据权利要求1所述的滤光器，其特征在于，

在所述第一基板上设置有凹部，所述支撑部具有从所述凹部的底面在所述第一基板的厚度方向比所述第一基板的形成有所述凹部的面突出规定距离的突起部，

在从所述第一基板的厚度方向看的俯视图中，所述突起部设置在所述第一光学膜的周围，

所述支撑部的所述突起部在所述第一光学膜侧的第一边缘部及第一侧面以及在与所述第一光学膜相反侧的第二边缘部及第二侧面被所述第一接合膜覆盖。

3.根据权利要求2所述的滤光器，其特征在于，

所述第二接合膜设置在所述第二基板的在所述第一基板侧的表面的整个区域上。

4.根据权利要求3所述的滤光器，其特征在于，

所述第一接合膜设置在所述第一基板的在所述第二基板侧的表面的整个区域上。

5.根据权利要求2所述的滤光器，其特征在于，

在从所述第一基板的厚度方向看的俯视图中，所述第一接合膜设置在与所述第一光学膜不具有重合的区域上，

在从所述第二基板的厚度方向看的俯视图中，所述第二接合膜设置在与所述第二光学膜不具有重合的区域上。

6.根据权利要求2或3所述的滤光器，其特征在于，

所述第一接合膜设置在所述第一光学膜上，且所述第二接合膜设置在所述第二光学膜上。

7.一种滤光器的制造方法，其特征在于，所述滤光器包括：具有支撑部的第一基板；被所述支撑部支撑的第二基板；设置在所述第一基板上的第一光学膜；设置在所述第二基板上、与所述第一光学膜相对的第二光学膜；设置在所述支撑部支撑所述第二基板的支撑面的整个区域上的第一接合膜；以及设置在所述第二基板的被支撑面之中至少与所述支撑面的整个区域相对的区域上的第二接合膜，所述第一基板和所述第二基板通过所述第一接合膜和所述第二接合膜在所述支撑部接合而固定，所述滤光器的制造方法包括：

形成所述第一基板的工序，在该工序中，在基板上形成凹部、由从所述凹部的底面在所述第一基板的厚度方向比所述第一基板的形成有所述凹部的面突出规定距离的突起部构成的所述支撑部以及所述第一光学膜，从而形成第一基板；

形成所述第二基板的工序，在该工序中，使基板具有所述被支撑面并在基板上形成所述第二光学膜，从而形成所述第二基板；

形成所述第二接合膜的工序，在该工序中，当将所述第一方向上的所述第二基板的最大对准偏移量设为α并将所述第一方向上的所述第一基板的最大对准偏移量也设为所述α时，在所述第二基板的所述被支撑面的正的所述第一方向侧设定2α以上的第一位置偏移余量且在与所述正的第一方向相反的负的第一方向侧也设定2α以上的第二位置偏移余量，在所述被支撑面的与所述支撑面的整个区域相对的区域上以及通过所述第一位置偏移余量和所述第二位置偏移余量确定的位置偏移余量区域上形成所述第二接合膜，其中，所述第一方向上的所述第二基板的最大对准偏移量α包括所述第二接合膜在所述第一方向上的图案对准偏移量和所述第二基板相对于所述第一基板在所述第一方向上的基板对准偏移量；

形成所述第一接合膜的工序，在该工序中，在设置于所述第一基板上的所述支撑体的所述支撑面的整个区域上形成所述第一接合膜；

活化所述第一接合膜的工序；

活化所述第二接合膜的工序；以及

固定所述第一基板和所述第二基板的工序，在该工序中，在所述第一光学膜与所述第二光学膜相对且所述支撑面与所述被支撑面相对的状态下保持所述第一基板和所述第二基板，并通过向所述第一基板和所述第二基板中的至少一个施加负荷来接合被活化的所述第一接合膜和被活化的所述第二接合膜，从而将所述第一基板和所述第二基板固定。