[发明专利]液晶显示装置的制造方法和用于配向处理的曝光装置

权利要求书

1.一种液晶显示装置的制造方法，所述液晶显示装置包括：

第一基板；

面向所述第一基板的第二基板；

设置在所述基板之间的液晶层；

设置在所述第一基板的液晶层一侧的表面上的第一配向膜；和

设置在所述第二基板的液晶层一侧的表面上的第二配向膜，

其中所述制造方法包括在多个像素区域上连续对所述第一配向膜和/或第二配向膜进行扫描曝光，

所述扫描曝光包括将所述第一配向膜和/或所述第二配向膜曝光，同时扫描每个像素区域的内部，以在每个像素区域中形成使液晶分子与所述第一配向膜和/或所述第二配向膜的表面以反平行方向配向的区域。

2.如权利要求1所述的液晶显示装置的制造方法，

其中所述液晶层包含负介电各向异性的液晶分子，并且

所述第一配向膜和所述第二配向膜的液晶分子与所述第一配向膜和所述第二配向膜的表面基本上垂直地配向。

3.如权利要求2所述的制造方法，

其中执行所述第一基板和所述第二基板的贴合，使得所述第一配向膜的扫描曝光方向和所述第二配向膜的扫描曝光方向基本上互相垂直。

4.如权利要求1所述的制造方法，

其中所述扫描曝光通过在光源与所述第一配向膜和/或所述第二配向膜之间的光掩膜进行。

5.如权利要求4所述的制造方法，

其中所述光掩膜设置有开孔，所述开孔具有基本上线性的形状。

6.如权利要求5所述的制造方法，

其中所述开孔之间的间距的长度等于与所述扫描曝光方向垂直的方向中的多个像素区域的间距的长度。

7.如权利要求1所述的制造方法，

其中所述扫描曝光从所述第一基板和/或所述第二基板的一端向所述第一基板和/或所述第二基板的另一端连续进行。

8.如权利要求1所述的制造方法，

其中在所述扫描曝光中，光束从相对于所述基板表面上的法线倾斜的方向入射，且

所述光束相对于所述基板表面上的法线的入射角为5度或更大且为70度或更小。

9.如权利要求1所述的制造方法，

其中在所述扫描曝光中，所述第一配向膜和/或所述第二配向膜由偏振光照射。

10.如权利要求1所述的制造方法，

其中在所述扫描曝光中，所述第一配向膜和/或所述第二配向膜由紫外光照射。

11.如权利要求1所述的制造方法，

其中所述液晶分子的预倾斜角度是85度或更大且小于90度。

12.如权利要求1所述的制造方法，

其中所述液晶分子的预倾斜角度的偏差在0.5度以内。

13.如权利要求1所述的制造方法，

其中使所述液晶分子与所述第一配向膜和/或所述第二配向膜的表面以反平行方向配向的区域的宽度，基本上是与所述扫描曝光方向垂直的方向中的多个像素的间距的一半。

14.如权利要求13所述的制造方法，

其中每个像素中，使所述液晶分子与所述第一配向膜和/或所述第二配向膜的表面以反平行方向配向的每个区域的面积比彼此相同。

15.如权利要求1所述的制造方法，

其中所述制造方法用于制造VATN模式的液晶显示装置，

所述液晶显示装置包括在所述第一基板侧上的第一偏光片和在所述第二基板侧上的第二偏光片，

所述第一配向膜的配向方向与所述第一偏光片的吸收轴平行，且

所述第二配向膜的配向方向与所述第二偏光片的吸收轴平行。

16.如权利要求1所述的制造方法，

其中在基于由照相机检测的位置数据校正所述基板表面上的光束的位置的同时进行所述扫描曝光。