[发明专利]涂敷显影装置、涂敷显影方法和存储介质

权利要求书

1.一种涂敷显影装置，将通过载体搬入到载体块的基板交接至处理块，该基板在该处理块中形成含有抗蚀剂膜的涂敷膜后，通过相对于所述处理块位于与载体块相反侧的接口块被搬送到曝光装置，对通过所述接口块返回的曝光后的基板在所述处理块中进行显影处理，并将其交接至所述载体块，该涂敷显影装置的特征在于，包括：

a)所述处理块，所述处理块包括：

上下层叠多个前段处理用的单位块而形成的部件，该前段处理用的单位块具备：用于在基板上形成下层侧的防反射膜而供给药液的下层用的液处理模块；用于在所述防反射膜上形成抗蚀剂膜而供给抗蚀剂液的涂敷模块；对基板进行加热的加热模块；和用于在这些模块之间搬送基板，在从载体块侧向接口块侧延伸的直线搬送路径上移动的单位块用的搬送机构；

多个后段处理用的单位块，其包括：在多个前段处理用的单位块的接口块侧与该前段处理用的单位块相邻地分别设置的、用于在形成有抗蚀剂膜的基板上形成上层侧膜而供给药液的上层用的液处理模块；对基板进行加热的加热模块；和用于在这些模块之间搬送基板，在从载体块侧向接口块侧延伸的直线搬送路径上移动的单位块用的搬送机构；

在前段处理用的单位块和对应的后段处理用的单位块之间分别设置的、在两单位块的搬送机构之间进行基板的交接用的涂敷处理用的交接部；

在各段的涂敷处理用的交接部之间和各段的显影处理用的交接部之间进行基板的搬送用的能够自由升降而设置的辅助移载机构；

上下层叠多个显影处理用的单位块而形成的部件，该显影处理用的单位块具备：相对于上下层叠多个前段处理用的单位块而形成的部件，在上下方向层叠，向基板供给显影液的液处理模块；对基板进行加热的加热模块；和在从载体块侧向接口块侧延伸的直线搬送路径上移动的单位块用的搬送机构；

具备在多个显影处理用的单位块的接口块侧与该显影处理用的单位块相邻地分别设置的、在从载体块侧向接口块侧延伸的直线搬送路径上移动、用于搬送基板的单位块用的搬送机构的辅助用的单位块；和

设置在显影处理用的单位块和对应的辅助用的单位块之间，用于在两单位块的搬送机构之间进行基板的交接的显影处理用的交接部，

b)按照各单位块设置在载体块侧，在各单位块的搬送机构之间进行基板的交接的搬入搬出用的交接部，

c)用于从载体将基板分配并交接至对应于前段处理用的各单位块的所述搬入搬出用的交接部，并且从对应于显影处理用的各单位块的搬入搬出用的交接部使基板返回载体的第一交接机构，和

d)用于接收在所述处理块处理后的曝光前的基板，将曝光后的基板分配并交接至显影处理用的单位块的第二交接机构。

2.如权利要求1所述的涂敷显影装置，其特征在于：

辅助用的单位块具备：通过该辅助用的单位块内的搬送机构进行基板的搬送，对形成有抗蚀剂膜的基板的背面侧进行清洁用的背面清洁模块。

3.如权利要求1或2所述的涂敷显影装置，其特征在于：

该涂敷显影装置具备控制部，其执行如下模式，该模式包括：在前段处理用的单位块发生故障时或进行维修时，不使用该单位块，通过其它的前段处理用的单位块在基板上形成下层侧的防反射膜和抗蚀剂膜的步骤；和在该步骤之后，通过所述辅助移载机构，将该基板搬送到不使用的单位块的接口块侧的后段处理用的单位块的步骤。

4.如权利要求1～3中任一项所述的涂敷显影装置，其特征在于：

该涂敷显影装置具备控制部，其执行如下模式，该模式包括：在后段处理用的单位块发生故障或进行维修时，不使用该单位块，通过不使用的单位块的载体块侧的前段处理用的单位块在基板上形成下层侧的防反射膜和抗蚀剂膜的步骤；和该步骤之后，通过所述辅助移载机构，将该基板搬送到其它阶层的后段处理用的单位块的步骤。

5.如权利要求1～4中任一项所述的涂敷显影装置，其特征在于：

前端处理用的单位块的层叠数和后段处理用的单位块的各个的层叠数为3层。

6.如权利要求1～5中任一项所述的涂敷显影装置，其特征在于：

显影处理用的单位块的层叠数为3层。

7.如权利要求1～6中任一项所述的涂敷显影装置，其特征在于：

所述辅助搬送机构具备：用于在各段涂敷处理用的交接部之间进行搬送的第一辅助移载机构；和用于在各段的显影处理用的交接部之间进行搬送的第二辅助移载机构。