[发明专利]一种光刻机设备系统及其测量方法

权利要求书

1.一种光刻机设备系统，包括：主基板、投影物镜、上顶板以及承版台，所述投影物镜嵌入所述主基板，所述上顶板设置在所述投影物镜上，所述上顶板设置有通光孔，所述承版台设置在所述上顶板的上方，其特征在于，所述光刻机设备系统中还包括激光干涉仪单元、导光单元以及反射单元，所述激光干涉仪单元设置在所述主基板上，所述激光干涉仪单元发出光束穿过所述通光孔经过所述导光单元到达所述反射单元。

2.如权利要求1所述的光刻机设备系统，其特征在于，所述导光单元包括设置在所述主基板上的第一导光单元和设置在所述上顶板上的第二导光单元。

3.如权利要求2所述的光刻机设备系统，其特征在于，所述第一导光单元包括第一测量导光单元和第一参考导光单元；所述第一测量导光单元包括X向第一测量导光单元、Y向第一测量导光单元以及Z向第一测量导光单元；所述第一参考单元包括X向第一参考导光单元和Y向第一参考导光单元。

4.如权利要求2所述的光刻机设备系统，其特征在于，所述第二导光单元包括第二测量导光单元和第二参考导光单元；所述第二测量导光单元包括X向第二测量导光单元、Y向第二测量导光单元以及Z向第二测量导光单元；所述第二参考单元包括X向第二参考导光单元和Y向第二参考导光单元。

5.如权利要求1所述的光刻机设备系统，其特征在于，所述反射单元包括设置在上顶板上的参考反射单元和设置在承版台上的测量反射单元；所述参考反射单元包括X向参考反射单元和Y向参考反射单元；所述测量反射单元包括X向测量反射单元、Y向测量反射单元以及Z向测量反射单元。

6.如权利要求1至5中任一项所述的光刻机设备系统，其特征在于，所述导光单元为多个45°角镜。

7.如权利要求1至5中任一项所述的光刻机设备系统，其特征在于，所述反射单元为反射镜。

8.如权利要求1至5中任一项所述的光刻机设备系统，其特征在于，所述激光干涉仪单元的至少为两个激光干涉仪。

9.一种利用如权利要求1所述的光刻机设备系统的测量方法，包括：

激光干涉仪单元发出光束经过导光单元射至所述反射单元；

所述反射单元将所述光束沿原光路返回至所述激光干涉仪单元；

所述激光干涉仪单元处理所述光束的频率获得所述承版台的位移数据。

10.如权利要求9所述的利用光刻机设备系统的测量方法，其特征在于，所述导光单元包括第一导光单元和第二导光单元，在激光干涉仪单元发出光束经过所述第一导光单元后，所述光束再经过所述第二导光单元射至所述反射单元。

11.一种光刻机设备系统，包括：主基板、投影物镜、上顶板、支架以及承版台，所述投影物镜嵌入所述主基板，所述上顶板设置在所述投影物镜上，所述上顶板设置有通光孔，所述承版台设置在所述上顶板的上方，其特征在于，所述光刻机设备系统中还包括激光干涉仪单元、导光单元以及反射单元；所述激光干涉仪单元包括第一激光干涉仪、第二激光干涉仪，所述第一激光干涉仪设置在所述主基板上，所述第二激光干涉仪设置在所述支架上；所述第一激光干涉仪发出光束穿过所述通光孔经过所述导光单元到达所述反射单元；所述第二激光干涉仪发出光束穿过所述通光孔到达所述反射单元。

12.如权利要求11所述的光刻机设备系统，其特征在于，所述导光单元包括设置在所述主基板上的第一导光单元和设置在所述上顶板上的第二导光单元。

13.如权利要求12所述的光刻机设备系统，其特征在于，所述第一导光单元包括X向第一测量导光单元和X向第一参考导光单元。

14.如权利要求12所述的光刻机设备系统，其特征在于，所述第二导光单元包括X向第二测量导光单元、Z向第二测量导光单元和X向第二参考导光单元。

15.如权利要求11所述的光刻机设备系统，其特征在于，所述反射单元包括设置在上顶板上的参考反射单元和设置在承版台上的测量反射单元；所述参考反射单元包括X向参考反射单元和Y向参考反射单元；所述测量反射单元包括X向测量反射单元、Y向测量反射单元以及Z向测量反射单元。