[发明专利]一种不锈钢表面纳米孔阵列薄膜及其制备方法无效
| 申请号： | 201110178327.4 | 申请日： | 2011-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN102268713A | 公开（公告）日： | 2011-12-07 |
| 发明（设计）人： | 倪红卫;詹玮婷;陈荣生 | 申请（专利权）人： | 武汉科技大学 |
| 主分类号： | C25D11/34 | 分类号： | C25D11/34;B82Y40/00;B82Y30/00 |
| 代理公司： | 武汉开元知识产权代理有限公司 42104 | 代理人： | 樊戎 |
| 地址： | 430081 *** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 不锈钢 表面 纳米 阵列 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种不锈钢表面纳米孔阵列薄膜及其制备方法，其特征在于，将表面预处理后的不锈钢作为阳极置于磷酸盐缓冲溶液中进行电化学阳极氧化处理，电化学阳极氧化处理的时间为0.1～4h，处理后的不锈钢表面得到纳米孔阵列薄膜；
电化学阳极氧化的电压为10～80V，电化学阳极氧化的温度为-5～40℃。
2.根据权利要求1所述的不锈钢表面纳米孔阵列薄膜及其制备方法，其特征在于所述的表面预处理为：先将不锈钢表面打磨至粗糙度小于Ra10μm，再将打磨后的不锈钢先后在无水乙醇和蒸馏水中超声清洗，吹干；然后将吹干后的不锈钢放入含高氯酸10～100mL/L和乙二醇900～990mL/L的溶液中，以不锈钢为阳极进行电化学抛光处理；
电化学抛光的电压为10～20V，电化学抛光的温度为-5～5℃，电化学抛光的时间为8～20min。
3.根据权利要求1所述的不锈钢表面纳米孔阵列薄膜及其制备方法，其特征在于所述的磷酸盐缓冲溶液的浓度为0.01～2mol/L，pH值为2～8。
4.根据权利要求1～3项中任一项所述的不锈钢表面纳米孔阵列薄膜及其制备方法所制备的不锈钢表面的纳米孔阵列薄膜。
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