[发明专利]化学气相沉积外延设备用的喷淋头结构

权利要求书

1.一种化学气相沉积外延设备用的喷淋头结构，其特征在于：它包括层叠设置的上层进气层、至少一中间进气层和下层冷却水层；

其中，所述上层进气层中设有上层进气槽，该上层进气槽与至少一上层进口管和至少一上层出口管连通，所述上层出口管上端与上层进气槽连通，下端由中间进气层和下层冷却层中垂直穿出；

所述中间进气层中设有中间进气槽，该中间进气槽与至少一中间进口管和至少一中间出口管连通，所述第一出口管上端与中间进气槽连通，下端由下层冷却层中垂直穿出；

所述中间出口管同轴套设于对应的上层出口管上，且该上层出口管和该中间出口管之间留有环形间隙。

2.如权利要求1所述的化学气相沉积外延设备用的喷淋头结构，其特征在于：所述喷淋头结构包括层叠设置的两层以上中间进气层，其中相邻两个中间进气层中位于上方的中间进气层的中间出口管同轴套设于位于下方的中间进气层的相应中间出口管中，且该两个中间出口管之间留有环形间隙。

3.如权利要求1所述的化学气相沉积外延设备用的喷淋头结构，其特征在于：所述冷却层中设有封闭水槽，该水槽与至少一进水口和至少一出水口连通，所述上层出口管和中间出口管均由所述水槽中穿过。

4.如权利要求1所述的化学气相沉积外延设备用的喷淋头结构，其特征在于：所述上层进气层、中间进气层和下层冷却层之间设有定位结构，所述定位结构包括相互配合的凸块及凹槽结构。

5.如权利要求1或4所述的化学气相沉积外延设备用的喷淋头结构，其特征在于：所述上层进气层、中间进气层和下层冷却层之间还均设有密封圈。

6.如权利要求1所述的化学气相沉积外延设备用的喷淋头结构，其特征在于：所述喷淋头结构还包括设置于底层的底座法兰。

7.如权利要求6所述的化学气相沉积外延设备用的喷淋头结构，其特征在于：所述底座法兰与冷却水层之间设有定位结构和密封圈，所述定位结构包括相互配合的凸块及凹槽结构。

8.如权利要求6所述的化学气相沉积外延设备用的喷淋头结构，其特征在于：所述底座法兰上分布有可供最下层中间进气层的中间出口管穿过的通孔，且所有上层出口管和中间出口管的下端面均与底座法兰的下端面平齐设置。

9.如权利要求8所述的化学气相沉积外延设备用的喷淋头结构，其特征在于：所述底座法兰与最下层中间进气层的中间出口管之间设有金属密封圈。

10.如权利要求1所述的化学气相沉积外延设备用的喷淋头结构，其特征在于：所述上层进气层的复数个上层出口管以及每一中间进气层的复数个中间出口管均采用等距、均匀排布的结构。