[发明专利]彩色滤光片及其形成方法

权利要求书

1.一种彩色滤光片，其特征在于，包括：

基板；

黑色矩阵，位于所述基板表面并呈网状结构，所述黑色矩阵存在间隙并露出所述基板表面，相邻的间隙之间的黑色矩阵在与所述基板垂直方向的截面为边缘低中间高的“凸”字型；

色阻层，位于所述间隙的基板表面且与相邻间隙之间的黑色矩阵的边缘重叠。

2.如权利要求1所述的彩色滤光片，其特征在于，所述相邻的间隙之间的黑色矩阵的边缘的厚度和中间的厚度的差值为0.1～0.7μm。

3.如权利要求1所述的彩色滤光片，其特征在于，所述基板边缘处的黑色矩阵在与所述基板垂直方向的截面为靠近所述间隙处厚度低于靠近基板边缘处厚度的阶梯状。

4.一种彩色滤光片，其特征在于，包括：

基板，位于所述基板表面的网状结构的黑色矩阵，所述黑色矩阵存在间隙并露出所述基板表面；

色阻层，位于所述基板表面和相邻间隙之间的黑色矩阵的边缘，所述位于相邻间隙之间的黑色矩阵的边缘的色阻层的厚度小于位于所述基板表面的色阻层的厚度。

5.如权利要求4所述的彩色滤光片，其特征在于，所述基板边缘处的黑色矩阵在与所述基板垂直方向的截面为靠近所述间隙处厚度低于靠近基板边缘处厚度的阶梯状。

6.如权利要求1或4所述的彩色滤光片，其特征在于，所述位于相邻间隙之间的黑色矩阵的边缘的色阻层的厚度和所述基板表面的色阻层的厚度的差值为0.1～0.7μm。

7.一种彩色滤光片的形成方法，其特征在于，包括：

提供基板；

形成位于所述基板表面并呈网状结构的黑色矩阵，所述黑色矩阵存在间隙并露出所述基板表面，相邻的间隙之间的黑色矩阵在与所述基板垂直方向的截面为边缘低中间高的“凸”字型；

形成位于所述间隙的基板表面且与相邻间隙之间的黑色矩阵的边缘重叠的色阻层。

8.如权利要求7所述的彩色滤光片的形成方法，其特征在于，所述黑色矩阵采用半灰调掩模板形成，所述半灰调掩膜板包括与所述相邻间隙之间的黑色矩阵的中间相对应的透光部、与所述相邻间隙之间的黑色矩阵的边缘相对应的半透光部和与所述间隙对应的遮光部。

9.如权利要求7所述的彩色滤光片的形成方法，其特征在于，所述相邻的间隙之间的黑色矩阵的边缘的厚度和中间的厚度的差值为0.1～0.7μm。

10.如权利要求7所述的彩色滤光片的形成方法，其特征在于，所述黑色矩阵的形成步骤包括在所述基板表面形成黑色层，以及曝光、显影、硬烤的制作工艺。

11.一种彩色滤光片的形成方法，包括：

提供基板，所述基板表面形成有网状结构的黑色矩阵，所述黑色矩阵存在间隙并露出所述基板表面；

形成位于所述基板表面和相邻间隙之间的黑色矩阵的边缘的色阻层，且位于相邻间隙之间的黑色矩阵的边缘的色阻层的厚度小于位于所述基板表面的色阻层的厚度。

12.如权利要求11所述的彩色滤光片的形成方法，其特征在于，所述色阻层采用半灰调掩模板形成，所述半灰调掩膜板包括与所述间隙相对应的透光部、与相邻间隙之间的黑色矩阵的边缘相对应的半透光部和与相邻间隙间的黑色矩阵的中间相对应的遮光部。

13.如权利要求11所述的彩色滤光片的形成方法，其特征在于，所述位于相邻间隙之间的黑色矩阵的边缘的色阻层的厚度和所述基板表面的色阻层的厚度的差值为0.1～0.7μm。

14.如权利要求11所述的彩色滤光片的形成方法，其特征在于，所述黑色矩阵的形成步骤包括在所述基板表面形成黑色层，以及曝光、显影、硬烤的制作工艺。