[发明专利]超大规模集成电路用高纯钨材的制备方法有效
| 申请号: | 201110143147.2 | 申请日: | 2011-05-31 |
| 公开(公告)号: | CN102161101A | 公开(公告)日: | 2011-08-24 |
| 发明(设计)人: | 闵邦平;胡元钧;王竹青;曾巧华;柴朝晖;刘希星;刘少霖 | 申请(专利权)人: | 赣州虹飞钨钼材料有限公司 |
| 主分类号: | B22F9/22 | 分类号: | B22F9/22;B22F3/16 |
| 代理公司: | 江西省专利事务所 36100 | 代理人: | 黄新平 |
| 地址: | 341000 *** | 国省代码: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 超大规模集成电路 高纯 制备 方法 | ||
1.一种超大规模集成电路用高纯钨材的制备方法,其特征在于:它包括以下步骤:
A、预还原,选用符合GB/T10116—2007中APT—0牌号的仲钨酸铵,采用常规技术通过四带温区还原炉,氢气还原生成含氧量为19~20%的蓝色氧化钨;
B、氢气还原,将蓝色氧化钨用常规还原工艺通过五带温区还原炉,在还原温度为600~950℃,氢气流量为4.0~6.0m3/h,氢气露点≤-60℃,推速为20~25min的工艺条件下调整装舟量,装舟量分别为280±5g、330±5g、380±5g、430±5g、480±5g时,制得费氏粒度为2.0±0.2μm、2.5±0.2μm、3.0±0.2μm、3.5±0.2μm、4.0±0.2μm的钨粉;
C、酸洗除杂,将以上各粒度钨粉分别用电阻率>1.0×105Ω·cm的去离子水搅拌洗涤30~35min,停搅拌澄清后,抽去上清液,加入浓度4~5%的盐酸,搅拌洗涤45~50min,停搅拌澄清,抽去上清液,再用电阻率>1.0×105Ω·cm 去离子水清洗至pH值>3为止,钨粉经真空过滤,置于70~90℃的真空烘干箱内干燥24~30h,并经160~200目筛筛分;
D、配粉,将酸洗除杂后的各粒度钨粉,按从小到大的顺序,比例为8~10:18~20:36~40:18~20:8~10,配合成费氏粒度为2.9~3.2μm的钨粉,在混料机中混合25~30min;
E、成形,将上工序得到的粉料,用常规技术在15~25MPa压力下模压成形;
F、预烧结,纯钨坯条置于钼舟内,在氢气露点≤-70℃,温度1200~1400℃下烧结30~50min;
G、高温烧结,预烧结后纯钨坯条置于垂熔罩内,在露点≤-70℃的氢气保护下高温烧结,烧结制度为二段升温、二段保温,电流/时间参数为 升温(0-3200A)/15min、保温3200A/15min、升温(3200-4150A)/2min、保温4150A/20min;
H、切断脱气处理,将高温烧结所得纯钨条切断成20~50mm,装入钼舟,置于温度为1600±50℃刚玉管电气炉中,在氢气露点≤-70℃,保温时间为3~5h下脱气处理,即得。
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