[发明专利]一种LED封装结构及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201110137906.4 申请日: 2011-05-25
公开(公告)号: CN102201527A 公开(公告)日: 2011-09-28
发明(设计)人: 肖德元;张汝京;程蒙召;于洪波;饶青 申请(专利权)人: 映瑞光电科技(上海)有限公司
主分类号: H01L33/48 分类号: H01L33/48;H01L33/38;H01L33/64;H01L33/00
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 郑玮
地址: 201306 上海市浦东新区*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 led 封装 结构 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种LED封装结构,其特征在于,包括:

LED芯片,采用垂直电极结构,其N型电极设置在其衬底的底部,且所述N型电极通过通孔与所述LED芯片的N型电子注入层电性相连;

导热基板,所述LED芯片固定在所述导热基板上;

反光杯,固定于所述导热基板上,且所述LED芯片位于所述反光杯内;

掺荧光粉胶层,位于所述反光杯内,将所述LED芯片密封在所述反光杯内。

2.如权利要求1所述的LED封装结构,其特征在于,所述通孔设置在所述衬底的底部,且与所述LED芯片的N型电子注入层相连,所述N型电极覆盖所述通孔及所述衬底底部。

3.如权利要求2所述的LED封装结构,其特征在于,所述N型电极包括第一电极及第二电极,其中所述第一电极位于所述通孔内,所述第二电极覆盖所述衬底底部。

4.如权利要求3所述的LED封装结构,其特征在于,所述第一电极的导电性大于所述第二电极的导电性,所述第二电极的散热性大于所述第一电极的散热性。

5.如权利要求4所述的LED封装结构,其特征在于,所述第一电极的材料为TiAlAu,所述第二电极的材料为Al或Cu。

6.如权利要求1所述的LED封装结构,其特征在于,所述LED芯片包括:衬底,在所述衬底上依次生长的低温缓冲层、N型电子注入层、多量子阱有源层、电子阻挡层、P型空穴注入层以及P型电极金属全发射层,其中,所述P型电极金属全发射层上制备有P型电极,所述衬底底部制备有N型电极,所述N型电极与所述N型电子注入层电性相连。

7.如权利要求6所述的LED封装结构,其特征在于,所述衬底为蓝宝石衬底。

8.如权利要求6所述的LED封装结构,其特征在于,所述LED芯片为氮化镓基LED芯片,其中,所述低温缓冲层为GaN层,所述N型电子注入层为N型GaN层,所述电子阻挡层为P型AlGaN层,所述P型空穴注入层为P型GaN层。

9.如权利要求1所述的LED封装结构,其特征在于,所述导热基板为硅衬底或氧化铝陶瓷基板。

10.一种如权利要求1所述的LED封装结构的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

制备所述LED芯片;

准备所述导热基板;

将所述LED芯片固定至所述导热基板上;

在所述导热基板上安装反光杯;以及

点胶,将掺荧光粉胶层注入至所述反光杯内。

11.如权利要求10所述的LED封装结构的制备方法,其特征在于,所述制备LED芯片具体包括如下步骤:

提供衬底;

在所述衬底上依次生长低温缓冲层、N型电子注入层、多量子阱有源层、电子阻挡层、P型空穴注入层以及P型电极金属全发射层;

在所述衬底中制作通孔,所述通孔与所述N型电子注入层相连;

沉积N型电极,所述N型电极填充所述通孔,并覆盖所述衬底底部;

在所述P型电极金属全发射层上制备P型电极。

12.如权利要求11所述的LED封装结构的制备方法,其特征在于,在所述衬底中制作通孔,所述通孔与所述N型电子注入层相连具体包括如下步骤:

将所述衬底减薄至20~50um;

采用激光在所述衬底上钻孔至所述N型电子注入层;

采用硫酸与磷酸混合液对所述孔的侧壁进行湿法腐蚀,形成所述通孔。

13.如权利要求11所述的LED封装结构的制备方法,其特征在于,所述N型电极包括第一电极及第二电极,其中所述第一电极位于所述通孔内,所述第二电极覆盖所述衬底底部。

14.如权利要求13所述的LED封装结构的制备方法,其特征在于,所述第一电极的导电性大于所述第二电极的导电性,所述第二电极的散热性大于所述第一电极的散热性。

15.如权利要求14所述的LED封装结构的制备方法,其特征在于,所述第一电极的材料为TiAlAu,所述第二电极的材料为Al或Cu。

16.如权利要求11所述的LED封装结构的制备方法,其特征在于,所述衬底为蓝宝石衬底。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于映瑞光电科技(上海)有限公司,未经映瑞光电科技(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110137906.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top