[发明专利]一种LED封装结构及其制备方法无效
| 申请号: | 201110137906.4 | 申请日: | 2011-05-25 |
| 公开(公告)号: | CN102201527A | 公开(公告)日: | 2011-09-28 |
| 发明(设计)人: | 肖德元;张汝京;程蒙召;于洪波;饶青 | 申请(专利权)人: | 映瑞光电科技(上海)有限公司 |
| 主分类号: | H01L33/48 | 分类号: | H01L33/48;H01L33/38;H01L33/64;H01L33/00 |
| 代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 郑玮 |
| 地址: | 201306 上海市浦东新区*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 led 封装 结构 及其 制备 方法 | ||
1.一种LED封装结构,其特征在于,包括:
LED芯片,采用垂直电极结构,其N型电极设置在其衬底的底部,且所述N型电极通过通孔与所述LED芯片的N型电子注入层电性相连;
导热基板,所述LED芯片固定在所述导热基板上;
反光杯,固定于所述导热基板上,且所述LED芯片位于所述反光杯内;
掺荧光粉胶层,位于所述反光杯内,将所述LED芯片密封在所述反光杯内。
2.如权利要求1所述的LED封装结构,其特征在于,所述通孔设置在所述衬底的底部,且与所述LED芯片的N型电子注入层相连,所述N型电极覆盖所述通孔及所述衬底底部。
3.如权利要求2所述的LED封装结构,其特征在于,所述N型电极包括第一电极及第二电极,其中所述第一电极位于所述通孔内,所述第二电极覆盖所述衬底底部。
4.如权利要求3所述的LED封装结构,其特征在于,所述第一电极的导电性大于所述第二电极的导电性,所述第二电极的散热性大于所述第一电极的散热性。
5.如权利要求4所述的LED封装结构,其特征在于,所述第一电极的材料为TiAlAu,所述第二电极的材料为Al或Cu。
6.如权利要求1所述的LED封装结构,其特征在于,所述LED芯片包括:衬底,在所述衬底上依次生长的低温缓冲层、N型电子注入层、多量子阱有源层、电子阻挡层、P型空穴注入层以及P型电极金属全发射层,其中,所述P型电极金属全发射层上制备有P型电极,所述衬底底部制备有N型电极,所述N型电极与所述N型电子注入层电性相连。
7.如权利要求6所述的LED封装结构,其特征在于,所述衬底为蓝宝石衬底。
8.如权利要求6所述的LED封装结构,其特征在于,所述LED芯片为氮化镓基LED芯片,其中,所述低温缓冲层为GaN层,所述N型电子注入层为N型GaN层,所述电子阻挡层为P型AlGaN层,所述P型空穴注入层为P型GaN层。
9.如权利要求1所述的LED封装结构,其特征在于,所述导热基板为硅衬底或氧化铝陶瓷基板。
10.一种如权利要求1所述的LED封装结构的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
制备所述LED芯片;
准备所述导热基板;
将所述LED芯片固定至所述导热基板上;
在所述导热基板上安装反光杯;以及
点胶,将掺荧光粉胶层注入至所述反光杯内。
11.如权利要求10所述的LED封装结构的制备方法,其特征在于,所述制备LED芯片具体包括如下步骤:
提供衬底;
在所述衬底上依次生长低温缓冲层、N型电子注入层、多量子阱有源层、电子阻挡层、P型空穴注入层以及P型电极金属全发射层;
在所述衬底中制作通孔,所述通孔与所述N型电子注入层相连;
沉积N型电极,所述N型电极填充所述通孔,并覆盖所述衬底底部;
在所述P型电极金属全发射层上制备P型电极。
12.如权利要求11所述的LED封装结构的制备方法,其特征在于,在所述衬底中制作通孔,所述通孔与所述N型电子注入层相连具体包括如下步骤:
将所述衬底减薄至20~50um;
采用激光在所述衬底上钻孔至所述N型电子注入层;
采用硫酸与磷酸混合液对所述孔的侧壁进行湿法腐蚀,形成所述通孔。
13.如权利要求11所述的LED封装结构的制备方法,其特征在于,所述N型电极包括第一电极及第二电极,其中所述第一电极位于所述通孔内,所述第二电极覆盖所述衬底底部。
14.如权利要求13所述的LED封装结构的制备方法,其特征在于,所述第一电极的导电性大于所述第二电极的导电性,所述第二电极的散热性大于所述第一电极的散热性。
15.如权利要求14所述的LED封装结构的制备方法,其特征在于,所述第一电极的材料为TiAlAu,所述第二电极的材料为Al或Cu。
16.如权利要求11所述的LED封装结构的制备方法,其特征在于,所述衬底为蓝宝石衬底。
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