[发明专利]彩膜结构及其制造方法、和应用该彩膜结构的液晶显示器

权利要求书

1.一种用于液晶显示器的彩膜结构，其特征在于，包括：

基板；

多个第一黑矩阵和多个第二黑矩阵，其设置在所述基板上，各相邻黑矩阵之间具有预定间隔，且所述第一黑矩阵的高度大于所述第二黑矩阵的高度；以及

多个彩膜层，其设置于各相邻黑矩阵之间的间隔中，并位于所述基板上。

2.根据权利要求1所述的彩膜结构，其特征在于，所述多个彩膜层的高度小于或等于所述多个第二黑矩阵的高度。

3.根据权利要求1或2所述的彩膜结构，其特征在于，所述多个第一黑矩阵和所述多个第二黑矩阵中的至少一部分黑矩阵的底部与相邻的彩膜层相交叠。

4.根据权利要求3所述的彩膜结构，其特征在于，所述多个第一黑矩阵中的每一个均为至少一层的结构，以及所述多个第二黑矩阵中的每一个均为至少一层的结构。

5.根据权利要求4所述的彩膜结构，其特征在于，所述多个第一黑矩阵中的每一个均为三层的结构，以及所述多个第二黑矩阵中的每一个均为两层的结构。

6.根据权利要求4或5所述的彩膜结构，其特征在于，所述多个第一黑矩阵和所述多个第二黑矩阵与所述基板相连的一层的厚度小于所述多个彩膜层的厚度。

7.根据权利要求4或5所述的彩膜结构，其特征在于，所述多个第一黑矩阵和所述多个第二黑矩阵的各层的截面宽度按照从所述基板开始的顺序而逐层减小。

8.一种液晶显示器，其包括如前述任一权利要求所述的彩膜结构。

9.一种用于液晶显示器的彩膜制造方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供基板；

在所述基板上形成多个第一黑矩阵和多个第二黑矩阵，各相邻黑矩阵之间具有预定间隔，且所述第一黑矩阵的高度大于所述第二黑矩阵的高度；以及

在各相邻黑矩阵之间的间隔中、且在所述基板上形成多个彩膜层。

10.根据权利要求9所述的彩膜制造方法，其特征在于，形成所述多个第一黑矩阵和所述多个第二黑矩阵的步骤还包括以下步骤：

将所述多个彩膜层的高度形成为小于或等于所述第二黑矩阵的高度。

11.根据权利要求9或10所述的彩膜制造方法，其特征在于，还包括以下步骤：

将所述多个第一黑矩阵和多个第二黑矩阵中至少一些黑矩阵的底部形成为与相邻的彩膜层相交叠。

12.根据权利要求9或10所述的彩膜制造方法，其特征在于，形成所述多个第一黑矩阵和所述多个第二黑矩阵的步骤还包括以下步骤：

将所述多个第一黑矩阵中的每一个均形成为至少一层的结构；以及

将所述多个第二黑矩阵中的每一个均形成为至少一层的结构。

13.根据权利要求12所述的彩膜制造方法，其特征在于，形成所述多个第一黑矩阵和所述多个第二黑矩阵的步骤还包括以下步骤：

将所述多个第一黑矩阵中的每一个均形成为三层的结构；以及

将所述多个第二黑矩阵中的每一个均形成为两层的结构。

14.根据权利要求12所述的彩膜制造方法，其特征在于，形成所述多个第一黑矩阵和所述多个第二黑矩阵的步骤还包括以下步骤：

将所述多个第一黑矩阵和所述多个第二黑矩阵与所述基板相连的一层的厚度形成为小于所述多个彩膜层的厚度。

15.根据权利要求14所述的彩膜制造方法，其特征在于，形成所述多个第一黑矩阵和所述多个第二黑矩阵的步骤还包括以下步骤：

将所述多个第一黑矩阵和所述多个第二黑矩阵的各层形成为其截面宽度按照从所述基板开始的顺序而逐层减小。

16.根据权利要求9所述的彩膜制造方法，其特征在于，形成所述多个第一黑矩阵和所述多个第二黑矩阵的步骤还包括以下步骤：

在所述基板上涂覆光刻胶层，所述光刻胶层的厚度等于所述第一黑矩阵的高度；以及

利用半色调或灰色调掩模板并通过调整曝光量来对所述光刻胶层进行曝光，以将所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵形成为具有如下形状：其与所述基板接触的部分的宽度大于其远离所述基板的部分的宽度，

其中，所述光刻胶层为形成所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵的材料层。