[发明专利]垂直共振腔面射型激光及其制作方法

权利要求书

1.一种垂直共振腔面射型激光，其特征在于，包含：

一基板；以及

一磊晶叠层，形成于该基板上，该磊晶叠层包含有一环状锌扩散区、一位于该锌扩散区下方的环状离子布植区、一位于离子布植区下方的环状氧化区，以及一位于该环状氧化区下方的主动区；

其中，该锌扩散区具有一锌扩散通孔，该离子布植区具有一离子布植通孔，且该氧化区具有一氧化通孔，且该锌扩散通孔、该离子布植通孔与该氧化通孔为相互连通。

2.根据权利要求1所述的垂直共振腔面射型激光，其特征在于，且该锌扩散通孔的轴心、该离子布植通孔的轴心与该氧化通孔的轴心为相互对齐。

3.根据权利要求1所述的垂直共振腔面射型激光，其特征在于，该磊晶叠层包含一位在该主动区一侧的第一布拉格反射镜，一位在该主动区另一侧的第二布拉格反射镜。

4.一种垂直共振腔面射型激光的制作方法，其特征在于，包含下列步骤：

(A)提供一基板；

(B)于该基板上形成一磊晶叠层；

(C)在该磊晶叠层上形成一第一屏蔽，该第一屏蔽具有一环状孔隙；

(D)通过该环状孔隙对该磊晶叠层进行离子布植，以形成一环状离子布植区；

(E)通过该环状孔隙对该磊晶叠层进行锌扩散，以形成一环状锌扩散区；

(F)在该第一屏蔽上形成一第二屏蔽，藉以遮蔽该第一屏蔽的环状孔隙；以及

(G)通过该第一屏蔽及该第二屏蔽对该磊晶叠层进行蚀刻，以形成一岛状平台。

5.根据权利要求4所述的垂直共振腔面射型激光的制作方法，其特征在于，形成该磊晶叠层包含形成一第一布拉格反射镜、一第二布拉格反射镜，以及一位在该第一布拉格反射镜与第二布拉格反射镜之间的主动区。

6.根据权利要求4所述的垂直共振腔面射型激光的制作方法，其特征在于，该磊晶叠层包含有一高铝含量层，且还包含在该岛状平台形成后，对该高铝含量层进行氧化以形成一环状氧化区。

7.根据权利要求6所述的垂直共振腔面射型激光的制作方法，其特征在于，该高铝含量层属于该第二布拉格反射镜。

8.根据权利要求4所述的垂直共振腔面射型激光的制作方法，其特征在于，形成该第一屏蔽包含在该磊晶叠层上形成一圆形部以及一环绕该圆形部且与该圆形部同心的圆环部，且该圆形部及该圆环部之间界定出该环状孔隙。

9.根据权利要求8所述的垂直共振腔面射型激光的制作方法，其特征在于，使该第二屏蔽至少完整涵盖该圆形部以及该环状孔隙，且不超出该圆环部之外。

10.一种垂直共振腔面射型激光的制作方法，其特征在于，包含下列步骤：

(A)提供一基板；

(B)于该基板上形成一磊晶叠层，且该磊晶叠层包含有一高铝含量层；

(C)在该磊晶叠层上形成一第一屏蔽，该第一屏蔽具有一环状孔隙；

(D)通过该环状孔隙对该磊晶叠层进行锌扩散，以形成一环状锌扩散区；

(E)在该第一屏蔽上形成一第二屏蔽，藉以遮蔽该第一屏蔽的环状孔隙；

(F)通过该第一屏蔽及该第二屏蔽对该磊晶叠层进行蚀刻，以形成一岛状平台；以及

(G)对该高铝含量层进行氧化以形成一环状氧化区。

11.根据权利要求10所述的垂直共振腔面射型激光的制作方法，其特征在于，形成该磊晶叠层包含形成一第一布拉格反射镜、一第二布拉格反射镜，以及一位在该第一布拉格反射镜与第二布拉格反射镜之间的主动区。

12.根据权利要求11所述的垂直共振腔面射型激光的制作方法，其特征在于，该高铝含量层属于该第二布拉格反射镜。

13.根据权利要求10所述的垂直共振腔面射型激光的制作方法，其特征在于，形成该第一屏蔽包含在该磊晶叠层上形成一圆形部以及一环绕该圆形部且与该圆形部同心的圆环部，且该圆形部及该圆环部之间界定出该环状孔隙。

14.根据权利要求10所述的垂直共振腔面射型激光的制作方法，其特征在于，使该第二屏蔽至少完整涵盖该圆形部以及该环状孔隙，且不超出该圆环部之外。