[发明专利]硅片清洗机喷淋用水加热设备

说明书

技术领域

本发明涉及一种多晶硅片生产设备，具体涉及一种硅片清洗机喷淋用水加热设备。

背景技术

硅片清洗机中使用的喷淋用水水温需保持在40℃，现有的硅片清洗机中没有加热设备，常因水温不足引起多晶硅片的脏片和花片现象，远远达不到生产工艺的要求。

发明内容

本发明的目的是为了克服现有技术的不足，提供一种硅片清洗机喷淋用水加热设备，解决了因水温不足所引起的多晶硅片的脏片和花片现象。

本发明采用的技术方案是：一种硅片清洗机喷淋用水加热设备，包括喷淋用水水箱和电加热管，所述喷淋用水水箱内设有电加热管；

所述电加热管包括金属管、电阻丝和氧化镁粉，所述金属管内设置有电阻丝，金属管内空隙部分填充有氧化镁粉。

工作原理：本发明在耐高温不锈钢无缝管内均匀地分布高温电阻丝，在空隙部分致密地填入导热性能和绝缘性能均良好的结晶氧化镁粉，当高温电阻丝中有电流通过时，产生的热通过结晶氧化镁粉向金属管表面扩散，再传递到喷淋用水中去，达到加热的目的，再供硅片清洗机使用。

有益效果：通过使用本发明产品后，水温达到了工艺要求，保持在40℃左右，杜绝了多晶硅片脏片和花片现象，提高了产品的合格率，降低了生产成本。

附图说明

附图为本发明的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步说明：

如附图所示：一种硅片清洗机喷淋用水加热设备，包括喷淋用水水箱1和电加热管2，所述喷淋用水水箱1内设有电加热管2；

所述电加热管2包括金属管、电阻丝和氧化镁粉，所述金属管内设置有电阻丝，金属管内空隙部分填充有氧化镁粉。