[发明专利]一种电沉积型光致抗蚀剂及其制备方法和成膜方法有效
| 申请号: | 201110060617.9 | 申请日: | 2011-03-14 |
| 公开(公告)号: | CN102156384A | 公开(公告)日: | 2011-08-17 |
| 发明(设计)人: | 刘萍;张双庆 | 申请(专利权)人: | 深圳丹邦科技股份有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/027;G03F7/038;C25D13/06 |
| 代理公司: | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人: | 江耀纯 |
| 地址: | 518057 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 沉积 型光致抗蚀剂 及其 制备 方法 | ||
1. 一种电沉积型光致抗蚀剂,其特征在于:包括如下组份:17.0-19.0wt%的水性丙烯酸类共聚物基体树脂、0.5-0.7wt%的光产酸剂、0.2-0.4 wt %的光敏剂、4.0-5.0wt%的活性稀释剂、1.0-2.0wt%的表面活性剂、2.0-3.0wt%的无机填料及70.0-72.0wt%的溶剂。
2. 如权利要求1中所述的电沉积型光致抗蚀剂,其特征在于:所述丙烯酸类共聚物的平均分子量为25000-30000,是丙烯酸类单体与丙烯酸酯类单体的共聚物,所述丙烯酸类单体和丙烯酸酯类单体的重量比为:1:(4.3-8.8)。
3. 如权利要求2中所述的电沉积型光致抗蚀剂,其特征在于:所述的丙烯酸类单体是丙烯酸和甲基丙烯酸中的一种或两种混合;所述丙烯酸酯类单体是甲基丙烯酸特丁酯、丙烯酸乙酯和丙烯酸-2-乙基己酯的混合,其质量配比为40:25:23;或是丙烯酸特丁酯、甲基丙烯酸羟乙酯和甲基丙烯酸月桂酸酯的混合,其质量配比为40:25:23;或甲基丙烯酸特戊酯、丙烯酸特丁酯和甲基丙烯酸缩水甘油酯的混合,其质量配比为40:25:23。
4. 如权利要求1中所述的电沉积型光致抗蚀剂,其特征在于:
所述的光产酸剂是:二硝基苄基对甲苯磺酸酯和2-对甲氧基苯乙烯-4,6-二(三氯甲基)-1,3,5-三嗪的混合物,其重量配比为1:1~1:2;
所述的光敏剂是:4,4’-二甲胺基二苯甲酮和二甲基羟基苯乙酮中的一种,或苯甲酮和安息香二甲醚的混合物,所述苯甲酮与所述安息香二甲醚的重量比为(1.5-1.6):(1.4-1.5);
所述的活性稀释剂是:(a)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯或季戊四醇三丙烯酸酯与(b)二缩三丙二醇二丙烯酸酯或己二醇二丙烯酸酯的混合物,其重量配比为1:1~1.5:1;
所述的表面活性剂是:甘油聚氧乙烯醚、聚氧乙烯仲辛酚醚或乙二醇单丁醚;
所述的无机填料是:气相SiO2和滑石粉的混合物,其重量配比为1.5:1~2:1;
所述溶剂是:丙酮和水的混合液,所述丙酮在混合液中的含量为3.0-6.0wt%。
5. 一种电沉积型光致抗蚀剂的制备方法,其特征是包括如下步骤:1)权利要求1-4任意一项所述的水性丙烯酸类共聚物基体树脂的制备;2)光致抗蚀剂的配制。
6. 如权利要求5所述的电沉积型光致抗蚀剂的制备方法,其特征是,所述步骤1)是将所述丙烯酸类单体、丙烯酸酯类单体混合物、有机过氧类引发剂、叔丁基溶纤剂和异丙醇,加热混合制备得到水性丙烯酸类共聚物基体树脂,所述水性丙烯酸类共聚物基体树脂的固含量为:42.0-49.0wt%,所述有机过氧类引发剂是过氧化二碳酸二乙基己酯、过氧化二异丙苯、过氧化苯甲酸特丁酯和过氧化二苯甲酰中的一种。
7. 如权利要求6所述的电沉积型光致抗蚀剂的制备方法,其特征是,所述步骤1)包括如下分步骤,所述份为重量份:
1.1)将所述叔丁基溶纤剂885-944份与异丙醇236-295份的混合有机溶剂,在无氧条件下,搅拌加热到80℃-85℃;
1.2)将所述丙烯酸类单体100-150份、丙烯酸酯类单体混合物650-880份和过氧化二苯甲酰10-12份组成的混合液在2~3h内滴加到分步骤1.1)所述的混合有机溶剂中,在分步骤1.1)所述的温度下搅拌5~7h;
1.3)将偶氮二异丁腈8-10份溶解于异丙醇中,所得的溶液在10~15 min内滴加到所述分步骤1.2)的反应液中,在80℃-85℃下搅拌2~3h,制得所述水性丙烯酸类共聚物基体树脂。
8. 如权利要求5-7任意一项所述的电沉积型光致抗蚀剂的制备方法,其特征是,所述步骤2)包括如下分步骤:
2.1)将所述水性丙烯酸类共聚物基体树脂、光产酸剂、光敏剂、活性稀释体、表面活性剂和无机填料溶解于丙酮中混合而成光敏性树脂组分;
2.2)在分步骤2.1)所述的光敏性树脂组分中加入有机胺,然后加入水,制得光致抗蚀剂,所述光致抗蚀剂的固含量为17-20wt%。
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