[发明专利]用于蚀刻轮廓控制的气体注入系统

权利要求书

1.一种用于蚀刻轮廓控制的气体注入系统，其特征在于，包括：

上部气体注入器，从隔室上部供给反应气体；以及

侧部气体注入器，放射状地形成多个喷射口，从而沿着上述隔室的内周面从多个位置同时喷射调节气体，在上述喷射口的端部上分别连接设置有导管，上述导管使上述调节气体近距离喷射到加载在上述隔室内侧的晶圆的边缘部。

2.根据权利要求1所述的用于蚀刻轮廓控制的气体注入系统，其特征在于，上述导管的中央部向下弯折而形成，使上述导管的前端部邻接位于上述晶圆的边缘部的上侧部。

3.根据权利要求1所述的用于蚀刻轮廓控制的气体注入系统，其特征在于，上述导管设置成前端部邻接于上述晶圆的边缘部上侧部，并向下倾斜地设置成上述调节气体在上述晶圆的外侧方向以一定角度喷射到边缘部。

4.根据权利要求1至3任一项所述的用于蚀刻轮廓控制的气体注入系统，其特征在于，上述侧部气体注入器在外侧部形成气体流入口，在内部形成分配流路，使上述气体流入口与上述多个喷射口连通。

5.根据权利要求4所述的用于蚀刻轮廓控制的气体注入系统，其特征在于，上述分配流路以与上述侧部气体注入器形成同心圆的方式，贯通形成于内部。

6.一种用于蚀刻轮廓控制的气体注入系统，其特征在于，包括：

上部气体注入器，从隔室上部供给反应气体；以及

背面气体注入器，外插设置在加载晶圆的静电吸盘的上侧部的外周，在上侧面间隔形成多个喷射口，使调节气体近距离地向上喷射到上述晶圆的边缘部。

7.根据权利要求6所述的用于蚀刻轮廓控制的气体注入系统，其特征在于，上述背面气体注入器在外部形成气体流入口，在内部形成分配流路，使上述气体流入口与上述多个喷射口连通。

8.根据权利要求6所述的用于蚀刻轮廓控制的气体注入系统，其特征在于，上述背面气体注入器在下侧面形成气体流入口，在内部形成分配流路，使上述气体流入口与上述多个喷射口连通，在支撑上述晶圆与背面气体注入器的静电吸盘上形成与上述气体流入口连通的贯通路。

9.根据权利要求7或8所述的用于蚀刻轮廓控制的气体注入系统，其特征在于，上述分配流路以与上述背面气体注入器形成同心圆的方式，贯通形成于内部。