[发明专利]光刻工艺中自动批量建立层间误差测量程式的方法

权利要求书

1.一种光刻工艺中的光刻层间误差的量测方法，其特征是包括步骤：

1)制作光刻信息文档；

2)把光刻信息转换成程式参数文件；

3)建立通用的量测程式的模板，包括

3.1)对产品设计通用的基准图案；

先在光掩模板设计图中固定位置画一个基准图案，作为量测机台对准识别用的标记；再把所述基准图案及其在曝光域的坐标导入量测机台的数据库中；

3.2)对产品量测设定通用的环境参数；

4)把所述程式参数导入量测机台的数据库，在数据库中，根据所述量测程式的模板和程式参数生成各个产品对应的量测程式，最终导入量测机台对相应产品进行量测；

根据上述生成的文件和模板，量测机台自动将其整合成光刻层间误差的量测程式。

2.根据权利要求1所述的光刻工艺中的光刻层间误差的量测方法，其特征是所述步骤1)中，信息文档包括：产品的光刻信息；曝光区域尺寸、切割道尺寸，以及量测标记在曝光域中的坐标等晶圆布局参数。

3.根据权利要求1所述的光刻工艺中的光刻层间误差的量测方法，其特征是所述步骤2)中，把光刻信息转换成程式参数文件是利用计算机程序进行转换，具体方法是，把光刻信息文档中的相关参数通过计算机程序先转换成程序变量，然后由程序将这些变量写成量测机台可以识别的程式参数文件。

4.根据权利要求1所述的光刻工艺中的光刻层间误差的量测方法，其特征是所述步骤3)中，对产品量测设定通用的环境参数，包括是否开启光路偏差矫正功能、是否使用手动辅助量测功能，和是否打开自动截图功能。

5.根据权利要求1所述的光刻工艺中的光刻层间误差的量测方法，其特征是所述步骤4)中，所述数据库由四部分组成：

1)晶圆布局参数；2)量测标记坐标设定；3)基准图案辨识设定；4)设定环境参数设定。