[发明专利]真空控制系统及真空控制方法有效
| 申请号: | 201110006248.5 | 申请日: | 2011-01-10 |
| 公开(公告)号: | CN102129256A | 公开(公告)日: | 2011-07-20 |
| 发明(设计)人: | 板藤宽;绞缬雅之 | 申请(专利权)人: | CKD株式会社 |
| 主分类号: | G05D16/16 | 分类号: | G05D16/16;F16K31/122 |
| 代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人: | 余朦;熊传芳 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 真空 控制系统 控制 方法 | ||
1.真空控制系统,使用真空泵对真空容器中的工艺气体的真空压力和流动进行控制,所述真空容器接收由供气部提供的工艺气体并对处理对象执行处理,其特征在于,包括:
多个真空控制阀,分别连接在各排气口和所述真空泵之间,所述各排气口被配置于所述真空容器中互不相同的位置;
压力测量部,测量被提供给所述处理对象的工艺气体的真空压力;以及
控制装置,根据所述压力测量部测出的真空压力,对所述多个真空控制阀的各自的开度进行操控。
2.如权利要求1所述的真空控制系统,其特征在于,
所述各排气口配置在所述真空容器的内部中相互夹着处理反应区的位置处,其中,在所述处理反应区执行所述处理,
所述压力测量部测量所述处理反应区的真空压力。
3.如权利要求2所述的真空控制系统,其特征在于,
所述控制装置进行控制使得通过补偿自所述处理反应区至所述各排气口的流导差异、和/或、包括所述真空泵与所述真空控制阀在内的各排气系统的个体差来使所述多个真空控制阀的排气流量彼此接近。
4.如权利要求2所述的真空控制系统,其特征在于,
所述控制装置进行控制使得通过补偿自所述处理反应区至所述各排气口的流导差异、和/或、包括所述真空泵与所述真空控制阀在内的各排气系统的个体差来使所述多个真空控制阀在所述处理反应区中的有效排气速度彼此接近。
5.如权利要求3或4所述的真空控制系统,其特征在于,所述控制装置包括:
偏离值存储部,存储对所述流导差异和/或所述个体差进行补偿的偏离值;以及
目标值设定部,使用从所述偏离值存储部读出的偏离值,设定用于对所述多个真空控制阀的开度进行控制的目标值。
6.如权利要求5所述的真空控制系统,其特征在于,
所述多个真空控制阀具有切断气流的切断功能,
所述控制装置具有基于所述多个真空控制阀的各自的特性数据生成所述偏离值并将生成的所述偏离值存储在所述偏离值存储部的功能,
所述特性数据是用于设定所述目标值的数据,其中,所述目标值是在所述多个真空控制阀中的一个真空控制阀工作而所述多个真空控制阀中的其他真空控制阀被切断的状态下所获取的值。
7.如权利要求5所述的真空控制系统,其特征在于,
所述控制装置包括:
共用的主控制部,根据所述测出的真空压力输出作为共用指令值的共用开度指令值,其中,所述共用开度指令值用于对所述多个真空控制阀的各自的开度进行操控;以及
多个从属控制部,对所述多个真空控制阀中的每一个分别设有一个所述从属控制部,根据所述共用开度指令值控制所述多个真空控制阀的各自的开度,
其中,所述各从属控制部获取所述各真空控制阀的开度的实测值,并根据所述各实测值、所述共用开度指令值和所述偏离值对所述各真空控制阀的开度进行控制。
8.如权利要求1所述的真空控制系统,其特征在于,
所述多个真空控制阀是通过工作流体操控阀开度以对所述真空容器内的真空压力进行控制的真空控制阀,
所述真空控制阀包括:
控制阀主体,具有将所述真空容器和所述真空泵连接的流路、以及形成于所述流路的阀座;
动作部,具有阀体、活塞以及连结所述阀体和所述活塞的杆,所述阀体通过调节提升量来操控所述阀开度,通过与所述阀座抵接进行所述流路的切断,其中,所述提升量为所述阀体与所述阀座之间的距离;
汽缸,与所述控制阀主体连接并收纳所述活塞;
施压部,在使所述提升量减小的方向上对所述动作部施压;以及
调压阀,追随所述活塞的动作,并对所述活塞的外周面与所述汽缸的内周面之间的间隙进行密封,
其中,所述动作部及所述汽缸包括:
阀开度操控室,是由所述调压阀密封且具有呈包围所述杆的筒形形状的空间,所述阀开度操控室根据所述工作流体的作用压力对所述活塞在使所述提升量增大的方向上产生载荷;以及
切断载荷产生室,与所述阀开度操控室共中心轴线,当被供给所述工作流体时,对所述动作部在使所述提升量减小的方向上产生载荷。
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