[发明专利]核磁共振断层摄像装置用磁场调整方法有效

专利信息
申请号: 201080053192.2 申请日: 2010-11-24
公开(公告)号: CN102665542A 公开(公告)日: 2012-09-12
发明(设计)人: 阿部充志;安藤龙弥 申请(专利权)人: 株式会社日立制作所
主分类号: A61B5/055 分类号: A61B5/055
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;郭凤麟
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 核磁共振 断层 摄像 装置 磁场 调整 方法
【权利要求书】:

1.一种核磁共振断层摄像装置用的磁场调整方法,在磁场发生装置中有被赋予了目标的磁场分布的区域,使该区域的磁场分布接近于所述目标的磁场分布,该核磁共振断层摄像装置用的磁场调整方法的特征在于,

作为调整单元具有能够将电流环、被动地进行磁化的铁片等磁性体或不依存于外部磁场的永久磁铁配置在包含该区域的筒状区域的磁场调整机构,

在预定数量的点进行磁场计测,计算与所述目标磁场的差即误差磁场,在与所述磁场调整机构区域内的磁场方向交叉的多个环形面上求出能够近似地补偿该误差磁场的磁场调整机构区域的电势分布,

将所述电势分布换算成磁矩,在包含一个或多个计算点的区域进行相加,进行用于配置与所相加的磁矩相当的环电流或磁性体片的磁场调整作业。

2.一种核磁共振断层摄像装置用的磁场调整方法,在磁场发生装置中有被赋予了目标的磁场分布的区域,使该区域的磁场分布接近于所述目标的磁场分布,该核磁共振断层摄像装置用的磁场调整方法的特征在于,

作为调整单元具有能够将电流环、被动地进行磁化的铁片等磁性体或不依存于外部磁场的永久磁铁配置在包含该区域的筒状区域的磁场调整机构,

在预定数量的点进行磁场计测,计算与所述目标磁场的差即误差磁场,在能够近似地补偿该误差磁场的磁场调整机构区域中配置的多个磁矩计算位置上求出磁矩的大小,

在包含一个或多个磁矩计算点的区域进行相加,进行配置与该磁矩的大小相当的环电流或磁性体片的磁场调整作业。

3.根据权利要求1或2所述的核磁共振断层摄像装置用的磁场调整方法,其特征在于,

从通过奇值分解而得的基底即固有分布函数中选择分布函数,通过其组合计算近似地补偿误差磁场的电势或磁矩的分布。

4.根据权利要求3所述的核磁共振断层摄像装置用的磁场调整方法,其特征在于,

根据近似地进行磁场补偿的电势或磁矩来计算被赋予了所述目标磁场的区域的磁场计测点的补偿磁场量,

通过从所述目标磁场中减去所述补偿磁场量来求出残留误差磁场的预测值,

选择所述残留误差磁场的预测值在容许残留误差磁场的目标范围内的固有分布函数。

5.根据权利要求1或2所述的核磁共振断层摄像装置用的磁场调整方法,其特征在于,

将磁矩换算成铁片密度,或者将电势作为与磁矩成比例的量换算成铁片量密度,

按照该换算后的分布来配置铁片。

6.根据权利要求1或2所述的核磁共振断层摄像装置用的磁场调整方法,其特征在于,

关于求出在误差磁场的补偿中所需的电势分布或磁矩的固有分布函数的选择,按照奇值从大到小的顺序进行排列并进行编号的序号即次数,在误差磁场中包含的固有分布的强度的相关图即频谱图中进行选择。

7.根据权利要求1或2所述的核磁共振断层摄像装置用的磁场调整方法,其特征在于,

关于计算结果的电势或与磁矩相当的量,在磁场调整机构中包含的圆筒面上对密度分布进行包含等高线的显示,作业者按照该显示来配置铁片。

8.根据权利要求7所述的核磁共振断层摄像装置用的磁场调整方法,其特征在于,

与等高线一起将被包含在配置铁片的磁场调整机构中的面以多角形进行分割,针对分割而得的各区域,将磁矩的大小或铁片量或永久磁铁量以面积积分值与等高线一起显示,或者无等高线地进行显示。

9.根据权利要求8所述的核磁共振断层摄像装置用的磁场调整方法,其特征在于,

汇总以等高线表示的山或盆地部而进行累计,将其量分散地配置在山或盆地部内的一个地方或多个地方。

10.根据权利要求1或2所述的核磁共振断层摄像装置用的磁场调整方法,其特征在于,

重复执行从磁场计测到磁矩的大小或铁片量或永久磁铁量的配置的计算和作业。

11.根据权利要求10所述的核磁共振断层摄像装置用的磁场调整方法,其特征在于,

通过重复计算和作业,与误差磁场的大小一起,对于表示通过奇值分解而得的磁场分布的基底即固有分布函数,显示各自的强度的大小,掌握磁场调整的进展。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日立制作所,未经株式会社日立制作所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201080053192.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top