[发明专利]在四氯化钛制造中利用反馈响应和前馈响应的组合来控制载钛材料流量有效
| 申请号: | 201080049688.2 | 申请日: | 2010-09-02 |
| 公开(公告)号: | CN102762753A | 公开(公告)日: | 2012-10-31 |
| 发明(设计)人: | J·E·小默克尔;R·R·小比茨 | 申请(专利权)人: | 纳幕尔杜邦公司 |
| 主分类号: | C22B34/12 | 分类号: | C22B34/12;B01J8/24;C01G23/02 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 王伦伟;李炳爱 |
| 地址: | 美国特*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 氯化 制造 利用 反馈 响应 组合 控制 材料 流量 | ||
1.用于控制在流化床反应器中的四氯化钛制造中的氯化反应,随后进行加工以形成包含一定量的二氧化硅的钛产品的方法,所述方法包括:
(a)将含碳材料、氯和包含一定量的二氧化硅的载钛材料喂入所述流化床反应器以形成气体物流,并且冷凝所述气体物流以形成四氯化钛、非冷凝的气体物流和可冷凝的产物物流;
(b)加工所述四氯化钛以形成包含一定量的二氧化硅的钛产品;
(c)分析所述包含一定量的二氧化硅的钛产品以测定二氧化硅的分析浓度;
(d)确定二氧化硅的设定点浓度;
(e)计算所述二氧化硅的分析浓度和所述二氧化硅的设定点浓度之间的差值;以及
(f)生成对应于步骤(e)中计算出的差值的信号,所述信号提供控制流入所述流化床反应器的载钛材料流量的反馈响应。
2.权利要求1的方法,其中所述二氧化硅的分析浓度大于所述二氧化硅的设定点浓度。
3.权利要求1的方法,其中所述二氧化硅的分析浓度小于所述二氧化硅的设定点浓度。
4.权利要求2的方法,其中所述二氧化硅的分析浓度大于所述二氧化硅的设定点浓度,并且所述反馈响应包括增加引入到所述流化床反应器中的载钛材料的量。
5.权利要求3的方法,其中所述二氧化硅的分析浓度小于所述二氧化硅的设定点浓度,并且所述反馈响应包括减少引入到所述流化床反应器中的载钛材料的量。
6.权利要求1的方法,其中所述二氧化硅的分析浓度通过分析所述钛产品来测定。
7.权利要求1的方法,其中对于所述钛产品的分析通过光谱学、光谱法或色谱法来完成。
8.权利要求7的方法,其中对于所述钛产品的分析通过X射线荧光光谱学来完成。
9.权利要求1的方法,其中所述二氧化硅以基于所述钛产品的总重量约0至约0.3重量%的量存在。
10.权利要求1的方法,其中所述二氧化硅以基于所述钛产品的总重量约0.0至约0.1重量%的量存在。
11.权利要求1的方法,其中所述二氧化硅以基于所述钛产品的总重量约0.01至约0.06重量%的量存在。
12.权利要求1的方法,其中所述二氧化硅的期望浓度为约0.01至约0.3摩尔%。
13.权利要求1的方法,其中所述信号为电信号、气动信号、数字信号或手动信号。
14.权利要求1的方法,其中所述反馈响应由反馈控制器提供,所述反馈控制器选自比例演算控制器、比例-积分演算控制器、比例-积分-微分演算控制器;或给控制装置提供反馈响应的合适的计算机软件或算法。
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