[发明专利]人工晶状体系统无效

专利信息
申请号: 201080039979.3 申请日: 2010-07-08
公开(公告)号: CN102647959A 公开(公告)日: 2012-08-22
发明(设计)人: 西奥多·P·韦尔布林 申请(专利权)人: 韦尔布林研发公司
主分类号: A61F2/16 分类号: A61F2/16
代理公司: 北京泛诚知识产权代理有限公司 11298 代理人: 陈波;林宇清
地址: 美国西维*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 人工 晶状体 系统
【权利要求书】:

1.可植入到人眼的光学系统中的多部件人工晶状体,包括:

由第一可折叠材料制造的基底晶状体,该基底晶状体包括至少一个限定在该基底晶状体的侧部中的凹口,以及构造成与该凹口接合的凸缘;以及

包括第一晶状体和第二晶状体的光学组合体,该第一和第二晶状体分别由第一和第二可折叠材料制造,其中,所述第一晶状体直接粘接与第二晶状体,而在该第一晶状体和第二晶状体之间不存在任何材料或物质,

其中,所述第一可折叠材料和第二可折叠材料是不同的,并且不具有任何相互粘接的特性,并且

其中,所述凸缘包括插口,该插口限定在该凸缘中,并且通过该插口,所述基底晶状体接合所述光学组合体。

2.根据权利要求1所述的人工晶状体,其中,所述第二可折叠材料包括亲水性丙烯酸树脂和疏水性丙烯酸树脂其中之一。

3.根据权利要求1所述的人工晶状体,还包括设置在该人工晶状体上的至少一个轴取向标记。

4.根据权利要求1所述的人工晶状体,其中,所述第一晶状体是中间晶状体而所述第二晶状体是顶部晶状体。

5.根据权利要求4所述的人工晶状体,其中,所述中间晶状体设置在所述顶部晶状体与所述基底晶状体之间,或者是所述顶部晶状体设置在所述中间晶状体与所述基底晶状体之间。

6.根据权利要求4所述的人工晶状体,其中,所述中间晶状体包括至少一个突起,该突起从外周表面向外延伸并且被构造成与限定在所述基底晶状体的凸缘中的所述插口接合。

7.根据权利要求6所述的人工晶状体,其中,所述至少一个突起和所述外周表面的至少其中一者的露出表面包括非粘接性区域。

8.根据权利要求7所述的人工晶状体,其中,所述非粘接性区域是磨砂的、非粘接性聚合物涂覆的、滚花的和抛丸的其中之一。

9.根据权利要求1所述的人工晶状体,其中,所述光学组合体还包括至少一个由附加的可折叠材料制造的附加晶状体。

10.根据权利要求9所述的人工晶状体,其中,所述至少一个附加晶状体设置在所述第一晶状体与所述基底晶状体之间并且仅仅粘接于该第一晶状体。

11.根据权利要求10所述的人工晶状体,其中,所述至少一个附加晶状体包括第三晶状体和第四晶状体。

12.根据权利要求9所述的人工晶状体,其中,所述第二晶状体设置在所述第一晶状体与所述基底晶状体之间,并且所述至少一个附加晶状体设置在所述第二晶状体与所述基底晶状体之间并且仅仅粘接于该第二晶状体。

13.根据权利要求12所述的人工晶状体,其中,所述至少一个附加晶状体包括第三晶状体和第四晶状体,该第三晶状体粘接于所述第四晶状体并且粘接于所述第二晶状体。

14.根据权利要求9所述的人工晶状体,其中,所述至少一个附加晶状体设置在所述第一晶状体与所述第二晶状体之间并且粘接于该第一和第二晶状体两者。

15.根据权利要求14所述的人工晶状体,其中,所述至少一个附加晶状体包括第三晶状体和第四晶状体。

16.根据权利要求9所述的人工晶状体,其中,所述至少一个附加晶状体设置在所述第一晶状体和第二晶状体的任意一个的上表面上,其中,所述第一和第二晶状体设置在所述至少一个附加晶状体与所述基底晶状体之间,并且所述至少一个附加晶状体粘接于所述第一晶状体和所述第二晶状体中距离所述基底晶状体最远的那个。

17.根据权利要求16所述的人工晶状体,其中,所述至少一个附加晶状体包括第三晶状体和第四晶状体。

18.根据权利要求9所述的人工晶状体,其中,所述至少一个附加晶状体包括第三晶状体和第四晶状体,该第三晶状体设置在所述第一晶状体与所述基底晶状体之间并且仅仅粘接于该第一晶状体,并且该第四晶状体设置在所述第一晶状体和所述第二晶状体之间并且粘接于该第一和第二晶状体两者。

19.根据权利要求9所述的人工晶状体,所述第二晶状体和所述至少一个附加晶状体各自具有相对于彼此不同的光学特性。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于韦尔布林研发公司,未经韦尔布林研发公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201080039979.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top