[发明专利]气体喷射装置和使用其的基底处理设备

权利要求书

1.一种气体喷射装置，包括：

多个气体喷射单元，所述多个气体喷射单元布置在基底支承部件上方，所述基底支承部件以可旋转的方式布置在腔室内以支承多个基底，所述多个气体喷射单元相对于所述基底支承部件的中心点沿圆周方向布置以将处理气体喷射到所述基底上，

其中，所述多个气体喷射单元中的每一个均包括：

顶板，所述顶板中设置有构造成引入所述处理气体的入口；以及

喷射板，所述喷射板布置在所述顶板下方以沿所述基底支承部件的半径方向在所述喷射板与所述顶板之间限定气体扩散空间，所述喷射板具有在所述气体扩散空间下方的多个气体喷射孔，以将经所述入口引入并在所述气体扩散空间内扩散的处理气体喷射到所述基底上，

其中，在所述多个气体喷射单元中的至少一个气体喷射单元中，分隔壁布置在所述顶板与所述喷射板之间，以沿所述基底支承部件的半径方向将所述气体扩散空间分割成多个隔开的空间，并且设置多个所述入口且所述多个入口分别设置在所述隔开的空间内使得所述处理气体独立地引入所述隔开的空间。

2.根据权利要求1所述的气体喷射装置，其中，气体引导管路连接到分别布置在所述隔开的空间中的所述入口，流量调节装置布置在每一个所述气体引导管路中以独立地控制所引入每个空间的气体的流量。

3.根据权利要求1所述的气体喷射装置，其中，在所述气体扩散空间中的所述隔开的空间当中，限定在所述基底支承部件的周缘侧的空间比限定在所述基底支承部件的中央侧的空间引入较大量的处理气体。

4.根据权利要求1所述的气体喷射装置，其中，所述气体喷射单元包括构造成喷射源气体的多个源气体喷射单元和构造成喷射吹扫气体的多个吹扫气体喷射单元。

5.根据权利要求4所述的气体喷射装置，其中，所述源气体喷射单元和所述吹扫气体喷射单元当中彼此相邻地布置以喷射相同气体的两个或更多喷射单元分组以形成气体喷射区块。

6.根据权利要求5所述的气体喷射装置，其中，所述源气体喷射单元包括构造成喷射所述源气体的喷射单元和构造成喷射与所述源气体发生反应的反应气体的喷射单元，并且构造成喷射所述源气体的所述多个喷射单元或构造成喷射所述反应气体的所述多个喷射单元分组以形成气体喷射区块。

7.根据权利要求4所述的气体喷射装置，其中，所述多个源气体喷射单元和所述多个吹扫气体喷射单元中的至少一个喷射单元具有与其它喷射单元不同的面积。

8.根据权利要求1所述的气体喷射装置，其中，经其选择性地喷射或不喷射气体的缓冲喷射单元布置在所述多个气体喷射单元之间。

9.根据权利要求1所述的气体喷射装置，还包括布置在所述顶板的中心以喷射吹扫气体的中央吹扫气体喷射单元。

10.根据权利要求1所述的气体喷射装置，其中，所述顶板具有选自以下结构的一种结构：这样一种结构，其中所述顶板整体地设置，所述气体喷射单元中的每一个的所述喷射板相对于所述基底支承部件的中心沿圆周方向布置以占用所述顶板的一部分，并且所述气体喷射单元中的每一个均联接到所述顶板的下部；和这样一种结构，其中针对每个气体喷射单元单独设置多个所述顶板，所述多个顶板相对于所述基底支承部件的中心沿圆周方向布置并且分别固定到联接于所述腔室的上部的框架上。

11.一种基底处理设备，包括：

具有内空间的腔室，在所述内空间内执行相对于基底的预定处理；

基底支承部件，多个基底座置在所述基底支承部件上，所述基底支承部件以可旋转的方式布置在所述腔室内；以及

气体喷射装置，所述气体喷射装置布置在所述基底支承部件上方以将气体喷射到所述基底上，所述气体喷射装置是根据权利要求1至10中任一项所述的气体喷射装置。