[发明专利]光学设备和定向反射元件的方法有效
| 申请号: | 201080037143.X | 申请日: | 2010-04-09 |
| 公开(公告)号: | CN102483581A | 公开(公告)日: | 2012-05-30 |
| 发明(设计)人: | 埃德温·比伊斯;G·德维里斯;F·布恩 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 吴敬莲 |
| 地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光学 设备 定向 反射 元件 方法 | ||
1.一种光学设备,包括可移动反射元件和相关的致动器,所述致动器包括第一磁体和第二磁体,所述第一磁体连接至所述可移动反射元件使得所述第一磁体的移动将导致所述可移动反射元件移动,所述第二磁体连接至马达使得所述马达的操作将导致所述第二磁体移动,其中所述第二磁体被相对于所述第一磁体定位,使得移动所述第二磁体将导致所述第一磁体移动。
2.根据权利要求1所述的光学设备,其中所述第一磁体通过可旋转地安装的杆连接至所述可移动反射元件。
3.根据权利要求1或2所述的光学设备,其中所述马达和所述第二磁体被相对于所述可移动反射元件和所述第一磁体密封。
4.根据前述权利要求中任一项所述的光学设备,还包括第一终点阻挡件和第二终点阻挡件,所述第一终点阻挡件布置成限制所述第一磁体的移动和确定所述第一磁体的第一位置,所述第二终点阻挡件布置成限制所述第一磁体的移动和确定所述第一磁体的第二位置。
5.根据前述权利要求中任一项所述的光学设备,其中所述马达是旋转马达,所述第二磁体被从所述旋转马达的旋转轴线移位。
6.根据前述权利要求中任一项所述的光学设备,其中所述可移动反射元件和相关的致动器是可移动反射元件和相关的致动器的阵列的一部分。
7.根据权利要求6所述的光学设备,其中所述阵列中的第二磁体和所述马达位于罩内,所述罩被相对于所述可移动反射元件和所述阵列的第一磁体密封。
8.根据权利要求7所述的光学设备,其中解复用器位于所述罩内,所述解复用器配置成对多路复用的引入的信号进行解复用,且提供信号至多个马达中的每一个马达。
9.根据权利要求6-8中任一项所述的光学设备,还包括具有多个开口的板,每个开口提供第一终点阻挡件,所述第一终点阻挡件布置成限制相关的第一磁体的移动和确定所述相关的第一磁体的第一位置;和提供第二终点阻挡件,所述第二终点阻挡件布置成限制所述相关的第一磁体的运动和确定所述相关的第一磁体的第二位置。
10.根据权利要求9所述的光学设备,其中,所述板由铁磁材料形成。
11.根据权利要求9或10所述的光学设备,其中所述第一终点阻挡件布置成限制所述相关的第一磁体在所述第一方向上的移动,所述第二终点阻挡件布置成限制所述相关的第一磁体在所述第一方向上的移动。
12.根据权利要求9或10所述的光学设备,其中所述第一终点阻挡件布置成限制所述相关的第一磁体在第一方向上和横向于所述第一方向的第二方向上的移动,所述第二终点阻挡件布置成限制所述相关的第一磁体在所述第一方向上和横向于所述第一方向的第二方向上的移动。
13.根据前述权利要求中任一项所述的光学设备,其中所述第一磁体设置有轴承。
14.根据前述权利要求中任一项的光学设备,其中所述设备还包括磁体屏蔽物,所述磁体屏蔽物包括与所述第一磁体相关的第一屏蔽物和与所述第二磁体相关的第二屏蔽物,所述第一屏蔽物和所述第二屏蔽物彼此相邻。
15.根据权利要求14所述的光学设备,其中组合的屏蔽效应用于以与如果没有设置所述第一和第二屏蔽物所需要的力相比减小将所述第二磁体保持在所述第一位置或所述第二位置上所需要的力。
16.根据权利要求14或15所述的光学设备,其中所述第二屏蔽物包括由所述磁性材料形成的板,所述板设置有开口,所述第二磁体位于所述开口内。
17.根据权利要求14-16中任一项所述的光学设备,其中所述第一屏蔽物包括磁性材料环,第一磁体位于所述磁性材料环中。
18.根据权利要求14-17中任一项所述的光学设备,其中所述第一屏蔽物或所述第二屏蔽物中的至少一个与非磁性材料片接触,所述非磁性材料片位于所述第一磁体和所述第二磁体之间。
19.根据权利要求1-18中任一项所述的光学设备,其中所述第一磁体或所述第二磁体包括一对磁体,所述一对磁体中的构件被在平行且相反的方向上磁化。
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