[发明专利]物体处理装置、曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法有效
| 申请号: | 201080036925.1 | 申请日: | 2010-08-19 |
| 公开(公告)号: | CN102483580A | 公开(公告)日: | 2012-05-30 |
| 发明(设计)人: | 青木保夫 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;B65G49/06;H01L21/68 |
| 代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 任默闻 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 物体 处理 装置 曝光 方法 以及 元件 制造 | ||
1.一种物体处理装置,包括:
一物体驱动装置,其将沿与水平面平行的一既定二维平面配置的一平板状物体驱动于该二维平面内的至少一轴方向;
一执行装置,其对被该物体驱动装置以一定速度驱动的该物体,在该物体的移动路径上的一既定区域内对该物体表面的被处理部位执行既定处理;
一调整装置,其包含一具有面积较该物体狭小的保持面的保持构件,使用该保持构件从下方以非接触状态保持该物体的一部分,并且调整该物体在与该二维平面交叉的方向的位置;以及
一驱动装置,其根据该物体相对该既定区域的位置,将该保持构件一边调整位置、一边驱动于该一轴方向。
2.如权利要求1所述的物体处理装置,其中,在对该物体进行该既定处理之前,该保持构件是在该既定区域于该物体的移动方向的上游侧的位置预先保持一包含该物体的该被处理部位前端部的区域,并且在为进行该既定处理而驱动该物体时,则该保持构件与该物体一起移动于该一轴方向。
3.如权利要求2所述的物体处理装置,其中,该保持面的尺寸在该一轴方向较该被处理部位短;
在对该物体进行该既定处理的期间,该驱动装置使该保持构件停止于与该既定区域对应的位置。
4.如权利要求3所述的物体处理装置,其中,在对该物体的该既定处理结束前,该保持构件是被该驱动装置朝向该物体的移动方向的下游侧加速,并且在保持有一包含该物体的该被处理部位后端部的区域的状态下与该物体一起移动于该一轴方向。
5.如权利要求1至4中任一权利要求所述的物体处理装置,其中,该保持面的尺寸在该一轴方向较该既定区域长。
6.如权利要求1至5中任一权利要求所述的物体处理装置,其中,该调整装置藉由从该保持构件的该保持面对该物体喷出气体,且吸引该保持面与该物体之间的气体而以非接触方式来保持该物体。
7.如权利要求6所述的物体处理装置,其中,该调整装置是使该物体与该保持面间的气体的压力及流量的至少一方为可变的,以使该物体与该保持面的距离为一定的。
8.如权利要求1至7中任一权利要求所述的物体处理装置,其中,该调整装置具有一将该保持构件驱动于与该二维平面交叉的方向的致动器。
9.如权利要求8所述的物体处理装置,其中,该调整装置进一步包含一支承该保持构件的支承构件;
该致动器包含:一可动件,其设于该支承构件;以及一固定件,其设于一与测量该保持构件的位置信息的测量构件在振动上分离的构件。
10.如权利要求1至9中任一权利要求所述的物体处理装置,其中,该调整装置具有一抵销该物体的重量的重量抵销装置。
11.如权利要求1至10中任一权利要求所述的物体处理装置,其进一步具备一上游侧支承装置,该上游侧支承装置是在一位于较该既定区域于该物体的移动方向的上游侧且与该保持构件的移动范围重迭的区域内,从下方以非接触方式支承该物体;
当该保持构件较该既定区域位于该物体的移动方向的上游侧时,该上游侧的支承装置从该保持构件的移动路径上退离。
12.如权利要求11所述的物体处理装置,其中,该上游侧的支承装置藉由对该物体喷出一气体而以非接触方式支承该物体。
13.如权利要求1至12中任一权利要求所述的物体处理装置,其进一步具备一下游侧的支承装置,该下游侧的支承装置是在一位于较该既定区域于该物体的移动方向的下游侧且与该保持构件的移动范围重迭的区域内,从下方以非接触方式支承该物体;
当该保持构件较该既定区域位于该物体的移动方向的下游侧时,该下游侧的支承装置从该保持构件的移动路径上退离。
14.如权利要求13所述的物体处理装置,其中,该下游侧的支承装置是对该物体喷出一气体而以非接触方式支承该物体。
15.如权利要求1至14中任一权利要求所述的物体处理装置,其进一步具备一非接触支承装置,该非接触支承装置是在一该物体的可移动范围内且在该保持构件的移动范围外,对该物体喷出一气体而从下方以非接触方式支承该物体。
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