[发明专利]浮雕印刷版的制版方法及浮雕印刷版制版用冲洗液无效
| 申请号: | 201080036568.9 | 申请日: | 2010-08-12 |
| 公开(公告)号: | CN102470663A | 公开(公告)日: | 2012-05-23 |
| 发明(设计)人: | 田代宏;足立圭一 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号: | B41C1/05 | 分类号: | B41C1/05;B41N1/12;B41N3/06 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 蒋亭 |
| 地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 浮雕 印刷 制版 方法 冲洗 | ||
1.一种浮雕印刷版的制版方法,其特征在于,依次具有以下工序:
准备具有浮雕形成层的浮雕印刷版原版的工序、
通过曝光对浮雕印刷版原版进行雕刻的工序、以及
用冲洗液除去通过雕刻而产生的雕刻浮渣的工序,
该冲洗液是pH为9以上的水溶液,
该雕刻浮渣含有具有下述式(I)所示基团的聚合物。
-M(R1)(R2)n (I)
式(I)中,R1表示OR3或卤素原子,M表示Si、Ti或Al,当M为Si时n为2,当M为Ti时n为2,当M为Al时n为1,具有n个的R2分别独立地表示烃基、OR3或卤素原子,R3表示氢原子或烃基。
2.一种浮雕印刷版的制版方法,其特征在于,依次具有以下工序:
准备具有浮雕形成层的浮雕印刷版原版的工序、
通过曝光对浮雕印刷版原版进行雕刻的工序、以及
用冲洗液除去通过雕刻而产生的雕刻浮渣的工序,
该冲洗液是pH为9以上的水溶液;
所述准备浮雕印刷版原版的工序依次包括以下工序:
形成具有能够将下述式(I)所示基团导入聚合物中的化合物、和具有能与该化合物反应的原子和/或基团的聚合物的树脂组合物层的工序,
通过光和/或热使该聚合物与该化合物反应的工序,
-M(R1)(R2)n (I)
式(I)中,R1表示OR3或卤素原子,M表示Si、Ti或Al,当M为Si时n为2,当M为Ti时n为2,当M为Al时n为1,具有n个的R2分别独立地表示烃基、OR3或卤素原子,R3表示氢原子或烃基。
3.根据权利要求1或2所述的浮雕印刷版的制版方法,进行所述雕刻的工序是对浮雕印刷版原版使用最大波长为700~1300nm的光纤半导体激光器通过扫描曝光而雕刻曝光区域的工序。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的浮雕印刷版的制版方法,其中,所述浮雕形成层含有光热转换剂。
5.根据权利要求4所述的浮雕印刷版的制版方法,其中,所述光热转换剂包含选自由能吸收700~1300nm的波长的光的颜料及染料组成的组中的至少1种。
6.根据权利要求4或5所述的浮雕印刷版的制版方法,其中,所述光热转换剂为炭黑。
7.根据权利要求6所述的浮雕印刷版的制版方法,其中,所述炭黑是DBP吸油量小于150ml/100g的炭黑。
8.根据权利要求1所述的浮雕印刷版的制版方法,其中,所述雕刻浮渣包含来自导入了所述式(I)所示基团的聚乙烯醇缩丁醛的分解物。
9.根据权利要求2所述的浮雕印刷版的制版方法,其中,所述聚合物为聚乙烯醇缩丁醛。
10.一种浮雕印刷版制版用冲洗液,其特征在于,其是用于除去具有浮雕形成层的浮雕印刷版原版通过曝光雕刻而产生的雕刻浮渣的冲洗液,
该冲洗液是pH为9以上的水溶液,
该雕刻浮渣含有具有下述式(I)所示基团的聚合物,
-M(R1)(R2)n (I)
式(I)中,R1表示OR3或卤素原子,M表示Si、Ti或Al,当M为Si时n为2,当M为Ti时n为2,当M为Al时n为1,具有n个的R2分别独立地表示烃基、OR3或卤素原子,R3表示氢原子或烃基。
11.根据权利要求10所述的浮雕印刷版制版用冲洗液,其中,所述冲洗液含有表面活性剂。
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