[发明专利]用于清洗聚合物的活性清洗化合物

权利要求书

1.一种用于清洁聚合物加工设备的活性清洗化合物，其中所述活性清洗化合物包含：

i)基于所述活性清洗化合物总重量的至少约50wt.%的聚合物载体组分；其中所述聚合物载体组分包括一种或多种聚合物；

ii)分散于所述聚合物载体组分中的断链催化剂组分；和

iii)成水组分；

其中所述活性清洗化合物是形式为多个微丸、微粒、棒、粉末或其它颗粒的原料物质。

2.根据权利要求1所述的活性清洗化合物，其中所述聚合物载体组分基本上不与所述断链催化剂起化学反应，这样，当将所述活性清洗化合物加热至高于第一聚合物组分的熔融峰温度约25℃度的温度，加热约30分钟的时间时，所述聚合物载体组分的重量平均分子量(按照ASTM D5296-05测定)变化小于约20%。

3.根据权利要求1或2所述的活性清洗化合物，其中所述断链催化剂组分包括断链催化剂，所述断链催化剂选自：至少一种碱金属氢氧化物、至少一种碱土金属氢氧化物，及其任意组合。

4.根据权利要求1至3任一项所述的活性清洗化合物，其中所述聚合物载体组分包括聚烯烃聚合物，所述聚烯烃聚合物含有基于所述聚烯烃聚合物总重量至少约50wt%的第一α-烯烃。

5.根据权利要求1至4任一项所述的活性清洗化合物，其中所述聚合物载体组分包括聚合物，所述聚合物具有按照ASTM D1238-04测定的约0.1g/10min至约80g/10min的熔体流动速率。

6.根据权利要求1至5任一项所述的活性清洗化合物，其中所述成水组分包括含有一个、两个、三个、四个或更多个水合水的成水化合物。

7.根据权利要求1至6任一项所述的活性清洗化合物，其中所述成水组分选自：氢氧化镁、氢氧化铝、碳酸氢钠、碳酸氢钾、水合金属氯化物、水合金属硫酸盐、水合金属硝酸盐、水合金属硅酸盐、水合金属碳酸盐，或其任意组合。

8.根据权利要求1至7任一项所述的活性清洗化合物，其中所述断链催化剂组分包括断链催化剂，所述断链催化剂选自：碱土金属氢氧化物、碱金属氢氧化物、碱土金属碳酸盐、碱金属碳酸盐、碱土金属氧化物、碱金属氧化物、碱金属醋酸盐、碱土金属醋酸盐、碱土金属氨基己酸盐、碱金属氨基己酸盐、线性二聚氨基己酸的金属盐、线性三聚己酸的金属盐，及其任意组合。

9.根据权利要求1至8任一项所述的活性清洗化合物，其中所述断链催化剂组分包括断链催化剂，所述断链催化剂选自：氧化钠、氧化钾、氧化钙、氧化镁、氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化钙、氢氧化镁、碳酸钠、碳酸钾、碳酸镁、醋酸钠、醋酸钾、醋酸镁、醋酸钙、氨基己酸钠、氨基己酸钾、氨基己酸二聚物的钠盐、氨基己酸三聚物的钠盐、氨基己酸二聚物的钾盐、氨基己酸三聚物的钾盐，及其任意组合。

10.根据权利要求1至9任一项所述的活性清洗化合物，其中所述断链催化剂组分包括氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸钾，或其任意组合。

11.根据权利要求1至10任一项所述的活性清洗化合物，其中所述断链催化剂组分以基于所述清洗化合物总重量的约0.1wt.%至约20wt.%的浓度存在。

12.根据权利要求1至11任一项所述的活性清洗化合物，其中所述成水组分以基于所述活性清洗化合物总重量的约0.1wt.%至约40wt.%存在。

13.根据权利要求1至12任一项所述的活性清洗化合物，其中所述成水组分分散在整个所述聚合物载体组分中。

14.根据权利要求1至13任一项所述的活性清洗化合物，其中所述活性清洗化合物包括多个含所述聚合物载体组分第一部分的第一颗粒和多个含所述聚合物载体组分第二部分和至少部分所述成水组分的第二颗粒，其中所述第一颗粒与所述第二颗粒不同。

15.一种用于制备权利要求1至14任一项的活性清洗化合物的方法，包括步骤：在低于预定最大混合温度的混合温度下将所述成水组分与所述聚合物载体组分混合，其中所述成水化合物在所述最大混合温度下通常是稳定的。