[发明专利]光学式膜厚计以及具有光学式膜厚计的薄膜形成装置

权利要求书

1.一种光学式膜厚计，该光学式膜厚计使测定光透过实际基板来测定光学膜厚， 其特征在于，该光学式膜厚计具备：

投光单元，其向上述实际基板射出作为上述测定光的出射光；

反射镜，其在隔着上述实际基板与上述投光单元相反侧的位置处反射上述出射 光；

受光单元，其接收透过上述实际基板且由上述反射镜反射而透过上述实际基板的 上述测定光；以及

光检测单元，其检测该受光单元所接收到的上述测定光，

上述实际基板被配置成相对于由上述投光单元和上述反射镜构成的光学系统倾 斜，

上述实际基板以相对于上述测定光的光轴具有规定角度的方式被配置在上述反 射镜与上述投光单元之间的位置。

2.根据权利要求1所述的光学式膜厚计，其特征在于，

作为上述测定光的上述出射光和由上述反射镜反射的反射光透过上述实际基板 的大致同一部位。

3.根据权利要求1所述的光学式膜厚计，其特征在于，

上述反射镜在相对于上述测定光的光轴大致垂直的方向上形成有反射面。

4.根据权利要求3所述的光学式膜厚计，其特征在于，

上述反射镜被配置成：上述反射镜的反射面的垂线与上述测定光的光轴所成的角 度处于-5.0～+5.0°的范围。

5.根据权利要求1所述的光学式膜厚计，其特征在于，

上述实际基板的相对于由上述投光单元和上述反射镜构成的光学系统的倾斜为 4.5°以上。

6.根据权利要求1、3、4、5中任意一项所述的光学式膜厚计，其特征在于，

上述实际基板以规定速度运动，上述反射镜相对于上述实际基板被固定地配置在 恒定位置处。

7.一种具有光学式膜厚计的薄膜形成装置，其具有：

能够旋转的穹顶状的基板保持器，其在真空容器内支撑实际基板；

校正板，其在蒸发蒸镀材料的蒸镀单元与上述基板保持器之间的位置处，被固定 地配置于上述真空容器侧；以及

光学式膜厚计，其在上述基板保持器上安装着上述实际基板的状态下，使测定光 透过上述实际基板来测定光学膜厚，

该薄膜形成装置的特征在于，

上述光学式膜厚计具备：

投光单元，其向上述实际基板射出作为上述测定光的出射光；

反射镜，其在隔着上述实际基板与上述投光单元相反侧的位置处反射上述出射 光；

受光单元，其接收透过上述实际基板且由上述反射镜反射而透过上述实际基板的 上述测定光；以及

光检测单元，其检测该受光单元所接收到的上述测定光，

上述实际基板被配置成相对于由上述投光单元和上述反射镜构成的光学系统倾 斜，

上述实际基板以相对于上述测定光的光轴具有规定角度的方式被配置在上述反 射镜与上述投光单元之间的位置。

8.根据权利要求7所述的具有光学式膜厚计的薄膜形成装置，其特征在于，

上述反射镜被配置在上述校正板上。