[发明专利]流体处理反应器

权利要求书

1.一种其内包含介质的结晶沉淀反应器，包括：

包括顶部和底部的容器；

固体排出端口，其被限定在所述容器内且在所述顶部和所述底部之间；

流出物排出端口，其被限定在所述容器内接近所述容器的所述顶部处；

流入物输入端口，其被限定在所述容器的所述底部中并且与所述介质流体连通；和

循环流出物端口，其被限定在所述容器的所述底部中并且与所述介质流体连通。

2.根据权利要求1所述的结晶沉淀反应器，包括介质入口端口，以允许再次装填或补充“清洁的”介质，而将这个过程保持以足够提供有效处理的介质。

3.根据权利要求1所述的结晶沉淀反应器，其中所述流入物输入端口和所述循环流出物端口是同心的。

4.根据权利要求1所述的结晶沉淀反应器，包括试剂喷嘴，该试剂喷嘴被联接到所述容器并与所述介质和试剂源流体连通。

5.根据权利要求3所述的结晶沉淀反应器，其中所述循环流出物端口与所述试剂源流体连通。

6.根据权利要求1所述的结晶沉淀反应器，其中所述流入物端口被联接到第一管道并与流入物源流体连通。

7.根据权利要求1所述的结晶沉淀反应器，其中所述循环流出物端口被联接到第二管道并与循环流出物源流体连通。

8.根据权利要求1所述的结晶沉淀反应器，其中所述介质为砂和促结晶剂中的一种。

9.一种流体处理系统，其包括：

其内包含介质的结晶沉淀反应器，所述反应器包括：

包括顶部和底部的容器；

固体排出端口，其被限定在所述容器内且在所述顶部和所述底部之间；

流出物排出端口，其被限定在所述容器内接近所述容器的所述顶部处；

流入物输入端口，其被限定在所述容器的所述底部中并且与所述介质流体连通；和

循环流出物端口，其被限定在所述容器的所述底部中并且与所述介质流体连通；

试剂源，其被联接到所述容器且与所述介质流体连通，并被选择性地与所述循环流出物端口联接；及

悬浮固体研磨装置，其与所述流出物排出端口以及所述流入物输入端口流体连通。

10.根据权利要求1所述的结晶沉淀反应器，包括介质入口端口，以允许再次装填或补充“清洁的”介质，而将这个过程保持以足够提供有效处理的介质。

11.根据权利要求9所述的流体处理系统，其中所述流入物输入端口和所述循环流出物端口是同心的。

12.根据权利要求9所述的流体处理系统，包括试剂喷嘴，该试剂喷嘴被联接到所述容器并与所述介质和所述试剂源流体连通。

13.根据权利要求9所述的流体处理系统，其中所述流入物端口被联接到第一管道并与流入物源流体连通。

14.根据权利要求9所述的流体处理系统，其中所述循环流出物端口被联接到第二管道并与循环流出物源流体连通。

15.一种用结晶沉淀反应器处理流体的方法，所述反应器包括容器，所述容器包含介质并且限定一下部和一上部，所述方法包括：

将流入物在接近所述容器的所述下部处经由第一管路注入所述反应器中；

将流出物在接近所述容器的所述上部处从所述反应器排出到悬浮固体研磨装置中；以及

将来自所述悬浮固体研磨装置的循环流出物在接近所述容器的所述下部处经由第二管路注入所述反应器。