[发明专利]曝光设备及器件制造方法

权利要求书

1.一种曝光设备，所述曝光设备经由被第一支撑构件支撑的光学系统利用能量光束对物体曝光，所述曝光设备包括：

移动体，所述移动体保持所述物体，并能够沿着指定的二维平面移动；

引导面形成构件，所述引导面形成构件形成所述移动体沿着所述二维平面移动时使用的引导面；

第一驱动系统，所述第一驱动系统驱动所述移动体；

第二支撑构件，所述第二支撑构件在与所述光学系统相反的侧上与所述引导面形成构件分开地放置，穿过所述引导面形成构件，以与所述第一支撑构件分离；

第一测量系统，所述第一测量系统包括第一测量构件，所述第一测量构件用测量光束照射与所述二维平面平行的测量面并接收来自所述测量面的光，并且所述第一测量系统利用所述第一测量构件的输出来获得所述移动体至少在所述二维平面内的位置信息，所述测量面被布置在所述移动体和所述第二支撑构件中的一个处，以及所述第一测量构件的至少一部分被布置在所述移动体和所述第二支撑构件中的另一个处；以及

第二测量系统，所述第二测量系统获得所述第二支撑构件的位置信息。

2.如权利要求1所述的曝光设备，其中

所述第二测量系统具有附接于所述第一支撑构件和所述第二支撑构件中的一个的传感器，所述传感器用测量光束照射所述第一支撑构件和所述第二支撑构件中的另一个并接收所述测量光束的返回光，所述第二测量系统利用所述传感器的输出获得所述第二支撑构件相对于所述第一支撑构件的相对位置信息。

3.如权利要求2所述的曝光设备，其中

所述第二支撑构件是平行于所述二维平面放置的梁状构件。

4.如权利要求3所述的曝光设备，其中

所述梁状构件的长度方向的两个端部分别与所述第一支撑构件相对，并且

所述第二测量系统具有布置在所述第一支撑构件和所述梁状构件在长度方向的两个端部中的一个的一对所述传感器，并且使用该一对传感器的输出来获得所述梁状构件相对于所述第一支撑构件的相对位置信息。

5.如权利要求1～4中任一项所述的曝光设备，其中

在所述测量面上放置光栅，所述光栅的周期方向是平行于所述二维平面的方向，并且

所述第一测量构件包括编码器头，所述编码器头用测量光束照射所述光栅并接收来自所述光栅的衍射光。

6.如权利要求1～5中任一项所述的曝光设备，其中

所述引导面形成构件为平台，所述平台被放置在所述第二支撑构件的所述光学系统侧以与所述移动体相对，并在与所述移动体相对的侧的一面上形成与所述二维平面平行的所述引导面。

7.如权利要求6所述的曝光设备，

其中所述平台具有所述测量光束能够通过的透光部。

8.如权利要求6或7所述的曝光设备，其中

所述第一驱动系统包括平面马达，所述平面马达具有布置在所述移动体处的动子和布置在所述平台处的定子，所述平面马达利用所述定子和所述动子之间产生的驱动力来驱动所述移动体。

9.如权利要求8所述的曝光设备，还包括：

基座构件，所述基座构件支撑所述平台以使得所述平台能够在与所述二维平面平行的平面内移动。

10.如权利要求9所述的曝光设备，其中

所述第二支撑构件被悬浮支撑在所述基座构件上。

11.如权利要求9或10所述的曝光设备，还包括：

平台驱动系统，所述平台驱动系统包括布置在所述基座构件处的定子和布置在所述平台处的动子，并且利用在所述动子和所述定子之间产生的驱动力而相对于所述基座构件驱动所述平台。

12.如权利要求1～11中任一项所述的曝光设备，其中

所述第二测量系统包括编码器系统和光干涉仪系统中的至少一个。