[发明专利]磁编码器标尺无效
| 申请号: | 201080005714.1 | 申请日: | 2010-01-19 |
| 公开(公告)号: | CN102301204A | 公开(公告)日: | 2011-12-28 |
| 发明(设计)人: | 霍华德·特雷弗·索尔特;若弗雷·麦克法兰;哈内斯·诺瓦克;柳博·斯拉巴杰纳 | 申请(专利权)人: | 瑞尼斯豪公司;RLS梅里那技术公司 |
| 主分类号: | G01D5/14 | 分类号: | G01D5/14;G01D5/244;F15B15/28 |
| 代理公司: | 北京金思港知识产权代理有限公司 11349 | 代理人: | 邵毓琴 |
| 地址: | 英国格*** | 国省代码: | 英国;GB |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 编码器 标尺 | ||
1.一种用来制造编码器标尺的方法,包括如下步骤:
(a)提供掩模,该掩模在编码器标尺部件上限定所需的凹槽图案,该编码器标尺部件由第一材料形成,
(b)穿过所述掩模,从所述编码器标尺部件蚀刻材料,以在编码器标尺部件的外表面中形成多个凹槽,
(c)将第二材料沉积到编码器标尺部件上,以大体填充凹槽,第二材料具有与第一材料不同的导磁率,
(d)使用机加工过程除去任何过多的第二材料,并由此提供具有大体光滑外表面的编码器标尺部件,以及
(e)用金属涂敷编码器标尺部件的外表面。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,步骤(a)包括如下步骤:将抗蚀剂层沉积到编码器标尺部件的外表面上。
3.根据权利要求2所述的方法,其中,步骤(a)包括:摹制沉积的抗蚀剂层,以提供限定所需凹槽图案的掩模。
4.根据任一以上权利要求所述的方法,其中,步骤(c)包括:穿过掩模用第二材料填充蚀刻的凹槽。
5.根据任一以上权利要求所述的方法,包括在步骤(c)与(d)之间的如下步骤:从编码器标尺部件除去掩模。
6.根据任一以上权利要求所述的方法,其中,第一材料是磁性的。
7.根据权利要求6所述的方法,其中,第一材料包括钢。
8.根据任一以上权利要求所述的方法,其中,第二材料是大体非磁性的。
9.根据权利要求8所述的方法,其中,第二材料包括锡、锌及铜中的至少一种。
10.根据任一以上权利要求所述的方法,其中,编码器标尺部件为杆的形式,该杆具有大体圆形横截面。
11.根据权利要求10所述的方法,其中,在步骤(b)中形成的凹槽的每一个围绕杆周向地延伸。
12.根据任一以上权利要求所述的方法,其中,在步骤(b)中形成的凹槽编码一种图案,该图案提供绝对位置的测量。
13.根据任一以上权利要求所述的方法,其中,步骤(e)包括沉积铬层。
14.根据任一以上权利要求所述的方法,包括如下另外步骤:抛光在步骤(e)中沉积的金属层。
15.一种编码器标尺,包括:
由第一材料形成的部件,所述部件在其外表面中具有多个凹槽;
第二材料,其填充在部件中的凹槽,所述第二材料具有与第一材料不同的导磁率,其中,第二材料在凹槽之间的区域中不存在;及
金属涂层,它覆盖所述部件和被填充的凹槽,其中,金属涂层为编码器标尺提供大体光滑的外表面。
16.一种制造编码器标尺部件的方法,包括如下步骤:
(i)取得由第一材料形成的编码器标尺部件,所述编码器标尺部件在其外表面中具有多个凹槽;
(ii)将第二材料沉积在编码器标尺部件上,以大体填充所述凹槽,第二材料具有与第一材料不同的导磁率;
(iii)应用机加工过程除去任何过多的第二材料,并由此提供具有大体光滑外表面的编码器标尺部件;以及
(iv)用金属涂敷编码器标尺部件的外表面,其中,步骤(ii)包括将第二材料仅沉积到所述凹槽中,而不沉积到编码器标尺部件的凹槽之间的区域上。
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