[发明专利]荧光检测装置及荧光检测方法无效
| 申请号: | 201080005461.8 | 申请日: | 2010-01-25 |
| 公开(公告)号: | CN102292630A | 公开(公告)日: | 2011-12-21 |
| 发明(设计)人: | 林弘能 | 申请(专利权)人: | 三井造船株式会社 |
| 主分类号: | G01N21/64 | 分类号: | G01N21/64 |
| 代理公司: | 北京万慧达知识产权代理有限公司 11111 | 代理人: | 于淼;张一军 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 荧光 检测 装置 方法 | ||
1.一种荧光检测装置,接收测量对象物受到激光照射后发出的荧光,并对此时所得到的荧光信号进行信号处理,其特征在于,包括:
激光光源部,向所述测量对象物照射激光;
受光部,输出所述测量对象物受到所述激光照射后发出的荧光的荧光信号;
光源控制部,生成将从所述激光光源部发射的激光强度用至少两个频率成分进行时间调制的调制信号;
处理部,使用从所述受光部输出的荧光信号和所述调制信号,求出所述测量对象物的荧光的荧光弛豫时间,其中,
所述处理部求出相对于所述至少两个频率成分的所述调制信号的所述荧光信号的相位滞后,利用所述相位滞后求出各频率成分的荧光弛豫时间,通过对所述荧光弛豫时间进行加权平均来求出平均荧光弛豫时间。
2.根据权利要求1所述的荧光检测装置,其特征在于:所述调制信号是对至少两个频率信号进行合成的信号。
3.根据权利要求1或2所述的荧光检测装置,其特征在于:所述处理部利用相对于所述至少两个频率成分的所述相位滞后的荧光弛豫时间的变化量的大小所对应的权重系数,求出所述平均荧光弛豫时间。
4.根据权利要求1至3任一项所述的荧光检测装置,其特征在于:在所述至少两个频率的一个频率值为其它频率值的两倍以上。
5.一种荧光检测方法,接收测量对象物受到激光照射后发出的荧光,并对此时所得到的荧光信号进行信号处理,其特征在于,包括:
向所述测量对象物照射激光的工序;
输出被所述激光照射的所述测量对象物发出的荧光的荧光信号的工序;
生成用至少两个频率成分对所述激光强度进行时间调制的调制信号的工序;
利用所述荧光信号和所述调制信号求出所述测量对象物的荧光的荧光弛豫时间的工序,其中,
求出所述荧光弛豫时间的工序包括:
求出相对于所述至少两个频率成分的所述调制信号的所述荧光信号的相位滞后的工序;
利用所述相位滞后求出各频率的荧光弛豫时间的工序;
通过对所述荧光弛豫时间进行加权平均而求出平均荧光弛豫时间的工序。
6.根据权利要求5所述的荧光检测方法,其特征在于:在生成所述调制信号的工序中,对所述至少两个频率成分的信号进行合成。
7.根据权利要求5或6所述的荧光检测方法,其特征在于:在求出所述荧光弛豫时间的工序中,利用相对于所述至少两个频率成分的所述相位滞后的荧光弛豫时间的变化量的大小所对应的权重系数,求出所述平均荧光弛豫时间。
8.根据权利要求5至7任一项所述的荧光检测方法,其特征在于:所述至少两个频率中的一个频率值为其它频率值的两倍以上。
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