[发明专利]用于使激光辐射均匀化的设备有效
| 申请号： | 201080005134.2 | 申请日： | 2010-02-17 |
| 公开（公告）号： | CN102292663A | 公开（公告）日： | 2011-12-21 |
| 发明（设计）人： | A·米哈伊洛夫;Y·科罗图史金 | 申请（专利权）人： | LIMO专利管理有限及两合公司 |
| 主分类号： | G02B27/09 | 分类号： | G02B27/09 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 赵科 |
| 地址： | 德国盖*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 激光 辐射 均匀 设备 | ||
1.一种用于使激光辐射(1)均匀化的设备，包括：
多个相互错开设置的反射镜元件(6)，要均匀化的所述激光辐射(1)能够在所述反射镜元件(6)上被反射使得所述激光辐射被分成数量与所述反射镜元件(6)的数量相对应的子束(8)，所述子束通过所述反射而相互具有光程差；
多个透镜元件(4)，为所述多个透镜元件中每一个透镜元件分别分配所述反射镜元件(6)之一，使得所述子束(8)中每一个都能穿过所述透镜元件(4)之一；
其特征在于，所述反射镜元件(6)中每一个反射镜元件与分配给这一个反射镜元件的透镜元件(4)之间的距离等于各自透镜元件(4)的焦距(f4)。
2.如权利要求1所述的设备，其特征在于，所述反射镜元件(6)中每一个反射镜元件用做为用于分配给这一个反射镜元件(6)的透镜元件(4)的入射瞳孔。
3.如权利要求2所述的设备，其特征在于，所述入射瞳孔具有尖利的侧缘。
4.如权利要求1至3之一所述的设备，其特征在于，所述反射镜元件(6)在第一方向上并排地设置。
5.如权利要求1至4之一所述的设备，其特征在于，所述反射镜元件(6)是阶梯镜(2)的一部分。
6.如权利要求1至4之一所述的设备，其特征在于，所述反射镜元件(6)构造为单独的反射镜。
7.如权利要求1至6之一所述的设备，其特征在于，所有反射镜元件(6)具有相同的口径。
8.如权利要求1至7之一所述的设备，其特征在于，一个或多个或所有反射镜元件(6)是平坦的。
9.如权利要求1至8之一所述的设备，其特征在于，所述透镜元件(4)在第二方向上并排地设置。
10.如权利要求9所述的设备，其特征在于，所述反射镜元件(6)并排设置的所述第一方向平行于所述透镜元件(4)并排设置的第二方向。
11.如权利要求1至10之一所述的设备，其特征在于，所述透镜元件(4)是一体的透镜阵列(10)的一部分。
12.如权利要求1至10之一所述的设备，其特征在于，所述透镜元件(4)构造为单独透镜元件(4)的阵列(3)。
13.如权利要求1至12之一所述的设备，其特征在于，所有透镜元件(4)具有相同的焦距(f4)。
14.如权利要求1至13之一所述的设备，其特征在于，所有透镜元件(4)具有相同的口径。
15.如权利要求1至14之一所述的设备，其特征在于，所述设备具有用作为傅立叶透镜的透镜(5)，所述透镜(5)能将穿过所述透镜元件(4)的子束(8)重叠。
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