[实用新型]风门装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及半导体清洗设备领域，尤其涉及一种风门装置。

背景技术

在半导体清洗设备中，微环境的状态对晶片的清洗效果影响比较大，保持一个良好的设备微环境对工艺的进行至关重要。通常，设备上方的FFU(Filter Fan Unit)会产生过滤后的干净的气流，气流自上而下流向设备中的其他单元，如清洗腔室、机械手区域、CDS(Chemical Dispense System)，同时会有排气装置将设备中可能产生的被污染气体排出，从而使设备中的气流处于一个动态平衡的状态。通常会在设备的排气口安装风门，以控制排气的开关。半导体清洗设备的风门通常都是手动开关的，但是风门有时是安装在设备的上部，不方便人工控制。并且，在做半导体工艺的过程中，有时是没有人在现场的，如果出现需要开关风门的情况，这时候就不能满足设备的需要。如果设备中有化学液挥发出来，风门堵塞后，大量的化学气体会留在设备中，可能造成安全事故。

实用新型内容

(一)要解决的技术问题

本实用新型的目的是设计一种自动开关的风门装置，以满足半导体设备的需要。

(二)技术方案

为达到上述目的，本实用新型提出了一种风门装置，包括：

风门；

摆动气缸，其转轴与所述风门的转轴连接；

压差计，其与所述风门和设备外部连接。

其中，还包括联轴器，其设置于所述摆动气缸的转轴和所述风门的转轴之间。

其中，还包括支架，用于将所述摆动气缸设置于所述风门上。

其中，所述转轴与所述风门内的挡板连接。

(三)有益效果

本实用新型的上述技术方案具有如下优点：本实用新型的风门装置设计简单，效果好，当风门附近与设备外部的气压差超出设定范围时，可实现风门的自动打开，从而避免安全事故的发生。

附图说明

图1为本实用新型风门装置实施例的示意图；

图2为本实用新型风门装置实施例的气缸的示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本实用新型的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型，但不用来限制本实用新型的范围。

如图1所示为本实用新型风门装置实施例的示意图，本实用新型的风门装置位于设备内部，并且包括：风门1、摆动气缸4、联轴器5、支架6和压差计7。差压计7的一端与风门1连接而另一端穿过设备外板8从而与设备外部连接，以检测它们之间的气压差。用联轴器5将风门1的转轴2与摆动气缸4的转轴连接，风门1的转轴2与风门1内的挡板3相连接，同时用支架6将摆动气缸4固定在风门1的面板上。

如图2所示，摆动气缸4的工作由两位五通电磁阀来控制(未示出，其设置于摆动气缸4上或附近)，摆动气缸4的气源由设备中的压缩空气来提供。

本实用新型的工作原理是：挡板3的初始位置为与风门法兰9成10°，当差压计7检测到气压差超出设定范围时，电磁阀动作，同时气缸4会摆动80°，带动转轴上的挡板3转动80°，此时挡板3与设备的风门法兰9垂直，风门完全打开，气体在风门中的流动横截面最大(气体的流动方向如图1中的箭头所示)，以保证设备中气体可以快速排出。当排出足够气体时，差压计会检测到气压差处于设定范围之内，从而控制电磁阀动作，气缸往回摆动80°，带动挡板回到初始位置，风门自动关闭。

以上所述仅是本实用新型的实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型技术原理的前提下，还可以做出若干改进和变型，这些改进和变型也应视为本实用新型的保护范围。