[实用新型]一种制膜装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种真空制膜装置。

背景技术

目前常用的制膜设备中利用到了脉冲激光淀积技术、溅射技术、电子束共蒸积和热共蒸积等技术。脉冲激光淀积法能生长出性能优良的薄膜，但生长速度慢。采用溅射方法制备薄膜，容易出现反溅射，膜的质量下降。电子束共蒸积制膜热源需要超高真空，而有些薄膜又需要氧气。因此，有必要对现有制膜装置进行改进。

实用新型内容

本实用新型针对上述技术存在的缺陷，提供一种膜的生成速度快、质量好的真空制膜装置。

为实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：

一种制膜装置，包括真空室、与真空室底部相连的抽气组件、安装在真空室内的加热器，所述加热器连接一置于真空室外的控制电源，其特征在于：还包括一对阳极电弧和阴极电弧，连接阳极电弧和阴极电弧的控制电源，以及电弧触发电极和控制电弧触发电极的控制电源，所述阴极电弧置于一水冷底座上。

所述加热器下端设有一对挂钩。

所述真空室内还设有一测温仪，所述测温仪一端与阴极电弧连接，一端与置于真空室外的温度显示屏连接。

所述阴极电弧是用铜制成的空心圆柱形，用于加热的靶材可以放在里面。

同样，所述阳极也是用铜制成的。

本实用新型通过阳极和阴极之间产生的弧光放电能将置于阴极内的蒸积材料迅速熔融，激发的等离子体向空间发射。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

如图1所示，本实用新型包括真空室1，在真空室底部右边开有一小孔，抽气机2通过该小孔与真空室1连接。真空室的上部固定连接一加热器10，加热器的控制电源5装在真空室外部。在加热器的下端设有一对挂钩，可以挂需要镀膜的器件。加热器的正下方设有一铜制的空心圆柱作为电弧阴极3，该电弧阴置于冷却底座12上，制膜时蒸积靶材置于电弧阴极3中，冷却底座降底电弧阴极的温度，防止高温。同样利用铜制成电弧阳极4，该电弧阳极通过控制电源5与电弧阴极3连接。在电弧阳极4的对面设一电弧触发电极8，控制该电弧触发电极的控制电源5置于真空室外面。为了更有效地了解控制制膜时的温度，还在真空室中设一测温仪6，测温仪在真空室内与电弧阴极3连接，同时还连接一在真空室外的温度显示屏。