[实用新型]变倍光学系统和成像设备有效

专利信息
申请号: 201020621207.8 申请日: 2010-11-18
公开(公告)号: CN201945735U 公开(公告)日: 2011-08-24
发明(设计)人: 远山信明 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G02B15/177 分类号: G02B15/177;G02B3/02
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 张成新
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光学系统 成像 设备
【权利要求书】:

1.一种变倍光学系统,包括从所述变倍光学系统的物侧依序布置的:

具有负屈光力的第一透镜组;

孔径光阑;和

具有正屈光力的第二透镜组,

其特征在于,通过改变第一透镜组和第二透镜组之间的在光轴方向上的间距来改变变倍光学系统的放大倍率,并且当通过改变所述放大倍率使得必须进行像平面的位置校正时,通过在所述光轴的方向上移动第一透镜组来校正所述像平面的位置,并且

其中所述第二透镜组包括从所述变倍光学系统的物侧依序布置的:非球面透镜,所述非球面透镜布置在第二透镜组的最远物侧,并且所述非球面透镜的物侧表面是非球面且该非球面的中心部分是凸出形状;粘合透镜,所述粘合透镜包括两个透镜;负透镜,所述负透镜具有面向变倍光学系统的像侧的凹面;和正透镜,所述正透镜具有面向变倍光学系统的物侧的凸面,并且

其中所述粘合透镜的两个透镜中的一个是正透镜,所述粘合透镜中的另一个是负透镜,并且

其中所述第二透镜组中的非球面透镜的物侧表面以正能力从非球面透镜的物侧表面的中心部分向非球面透镜的物侧表面的周边降低的方式形成,或者以在非球面透镜的物侧表面的中心部分和非球面透镜的物侧表面的周边之间存在拐点、且在中心部分和拐点之间正能力随着到中心部分的距离的增加而降低、且在拐点和周边之间负能力朝周边增加的方式形成,并且

其中当第二透镜组中的非球面透镜的e-线的折射率和非球面透镜的d-线的阿贝数分别为Ne5和vd5时,满足下面的公式(1)和(2):

Ne5<1.53     (1);和

vd5>75       (2)。

2.根据权利要求1所述的变倍光学系统,其特征在于,当第二透镜组 中的非球面透镜的近轴焦距为f5且第二透镜组的焦距为fG2时,满足下面的公式(3):

1.05<f5/fG2<1.65          (3)。

3.根据权利要求1所述的变倍光学系统,其特征在于,当第二透镜组中的、具有面向变倍光学系统的像侧的凹面的负透镜的e-线的折射率为Ne8时,满足下面的公式(4):

Ne8>1.95                   (4)。

4.根据权利要求1所述的变倍光学系统,其特征在于,当第二透镜组的粘合透镜中包括的正透镜的d-线的阿贝数为vd7时,满足下面的公式(5):

vd7>75                     (5)。

5.根据权利要求1所述的变倍光学系统,其特征在于,所述孔径光阑的位置固定不动。

6.一种成像设备,其特征在于,包括根据权利要求1-5中任一项所述的变倍光学系统。 

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