[实用新型]图案化雾面转印膜结构

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种转印膜结构，具体讲是涉及一种图案化雾面转印膜结构。

背景技术

产品外观包装为影响消费者选择的重要因素，具备独特构图设计与时尚质感的产品往往能够得到较多青睐。模内装饰(IMD，In-mold decoration)为一项新型塑料加工技术，其将上方印有装饰图纹的转印膜定位于射出机的模具内，在塑料制品射出成形的同时，进行图纹转印，完成壳体外观装饰。相较于传统喷涂、印刷、电镀等加工方式，模内装饰技术可配合制品量产，连续完成图纹转印，可简化生产步骤、缩短制程时间，己广泛应用于电子装置、家用电器等诸多领域。

图1为现有技术的转印膜结构的剖面示意图；图2为图1的转印膜结构应用状态的剖面示意图。如图所示，转印膜结构10包括一基底薄膜层11以及上方次序堆栈形成的一离型层12、一硬化膜层13、一饰纹层14以及一黏着膜层15。

基底薄膜层11可为塑料、金属或纤维系薄膜，用以提供表面平坦且不易变形的基材，以利后续涂布与印刷等加工。离型层12设置于基底薄膜层11表面上方，用以辅助基底薄膜层11离型。硬化膜层13设置于离型层12表面上，由树脂溶液干燥形成，为具高硬度的保护层。饰纹层14设置于硬化膜层13表面上，系由印刷形成的油墨装饰图纹。黏着膜层15设置于饰纹层14表面上方。转印时，提供一定的制程条件（例如：预定温度值)，使黏着膜层15紧密黏着于物品20表面，从而将转印膜结构10结合于物品20。最后，借着离型层12将基底薄膜层11撕离，即完成图纹转印。

上述转印膜结构10可提供亮面装饰图纹，然而实际操作上，雾面化以及亮面与雾面同时呈现的图案化雾面设计亦为常见的外观设计方式。

实用新型内容

为解决现有技术的不足，本实用新型目的在于提供一种图案化雾面转印膜结构，在转印时达到图案化雾面效果，以满足多样化的产品外观设计需求。

为达上述目的，本实用新型是通过以下的技术方案来实现的。

一种图案化雾面转印膜结构，其特征在于包括：一基底薄膜层，包括一由微粒子构成的抗眩光剂，使该基底薄膜层具有一凹凸粗糙的上表面；一遮蔽层，覆盖于该基底薄膜层上表面的局部区域，该遮蔽层具有一光滑的上表面，以于该基底薄膜层的上表面形成一光面图案；一离型层，设置于该基底薄膜层以及该遮蔽层的上表面；一第一硬化膜层，设置于该离型层的上表面；一饰纹层，设置于该第一硬化膜层的上表面；一第二硬化膜层，设置于该饰纹层的上表面；以及一黏着膜层，设置于该第二硬化膜层的上表面。

前述的图案化雾面转印膜结构，其特征在于该抗眩光剂微粒子的粒径为0.1微米至20微米。

前述的图案化雾面转印膜结构，其特征在于该抗眩光剂微粒子为氧化硅、氧化钛、碳黑、碳酸钙、滑石以及氧化钡中的一种陶瓷材料。

前述的图案化雾面转印膜结构，其特征在于该遮蔽层的厚度为2微米至10微米。

前述的图案化雾面转印膜结构，其特征在于该遮蔽层的材料为自由聚氨酯系树脂、环氧系树脂、压克力系树脂、聚醚系树脂、聚酰胺系树脂、聚醋酸纤维素系树脂、聚苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯系树脂、聚亚胺系树脂、聚二醚酮系树脂、聚醚砜系树脂、聚砜系树脂、胺基甲酸酯丙烯酸酯系树脂、丙烯氰酯系树脂、异氰酸酯中的一种。

前述的图案化雾面转印膜结构，其特征在于所述的饰纹层包括油墨层。

前述的图案化雾面转印膜结构，其特征在于所述的饰纹层包括一油墨层以及一金属薄膜层，油墨层设置于第一硬化膜层的上表面，金属薄膜层则设置于油墨层的上表面；第二硬化膜层设置于金属薄膜层与黏着膜层之间。

本实用新型的有益效果是：与现有技术相比，本实用新型由具有凹凸粗糙上表面的基底薄膜层上方设置遮蔽层，以便于基底薄膜层上方形成一光面图案，从而使得间隔离型层邻接于基底薄膜层及遮蔽层的硬化膜层同样形成凹凸粗糙表面，上方并分布有光面图案，而于转印膜应用时达到图案化雾面效果，以满足多样化的产品外观设计需求。

附图说明

图1为现有技术的转印膜结构的剖面示意图。

图2为图1的转印膜结构应用状态的剖面示意图。

图3为本实用新型图案化雾面转印膜结构的第一具体实施例的剖面示意图。

图4为本实用新型图案化雾面转印膜结构的第二具体实施例的剖面示意图。