[实用新型]一种阴极镀膜设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及行波管阴极组件镀膜领域，具体为一种用于阴极基体刻蚀镀膜的阴极镀膜设备。

背景技术

在行波管中，阴极组件的基本作用是提供一个低表面逸出功、大发射电流、长寿命、强抗中毒和耐离子轰击等特点的电子源。传统的浸渍钡钨阴极发射电流不够大、寿命不够长、工作温度过高、工作稳定性不够好，这些劣势导致浸渍钡钨阴极无法符合行波管的要求。因此在浸渍型钡钨阴极上需要镀一层膜以改善阴极性能，如降低阴极的逸出功，提高阴极的发射能力，在同等工作电流条件下，降低阴极工作温度，延长阴极工作寿命。当阴极基体精度要求高时，传统镀膜设备对膜层质量控制的困难度就会加大，导致镀膜质量不理想，无法满足行波管要求。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种阴极镀膜设备，以解决在阴极基体精度要求高时，传统的镀膜设备其镀膜质量无法满足行波管阴极要求的问题。

为了达到上述目的，本实用新型所采用的技术方案为：

一种阴极镀膜设备，包括有T形壳体，所述壳体顶部敞口，底部连通有供等离子体射入的管口，所述壳体顶部敞口盖合有顶盖，其特征在于：所述壳体T形顶部两端外缠绕有螺线包，壳体T形顶部中对应螺线包的两端内还分别设置有竖向屏蔽罩，所述壳体中从上到下依次设置有两层中间有位置对应的开孔的横向屏蔽罩，其中上层的横向屏蔽罩开孔中安装有支架，所述壳体中靠近底部管口位置设置有与下层横向屏蔽罩的开孔位置对应的靶材，所述壳体T形顶部两端内还分别设置有灯丝，所述灯丝位于所述横向屏蔽罩两端，且灯丝与对应位置的竖向屏蔽罩之间还分别设置有罩在灯丝外的半圆形屏蔽罩，从所述上层的横向屏蔽罩、靶材及半圆形屏蔽罩上分别连接有导线，所述导线从壳体底部引出。

所述的一种阴极镀膜设备，其特征在于：所述顶盖顶部安装有阀门。

所述的一种阴极镀膜设备，其特征在于：所述下层的横向屏蔽罩开孔中安装有可取下的挡板。

所述的一种阴极镀膜设备，其特征在于：所述顶盖和壳体顶部敞口之间设置有密封垫片。

本实用新型原理主要是通过磁场改变电子运动方向，束缚和延长电子的运动路径，电子与氮原子发生碰撞形成高密度等离子体，对靶材轰击引起溅射，溅射出来的中性靶原子沉积在阴极上，镀上一层薄膜。

本实用新型中，阴极基体放置于支架上，舱室内高密度等离子体打到靶材上，溅射出的中性靶原子沉积到阴极基体上，镀上一层薄膜。本实用新型可在实验室或车间内工作，温度(25±15)℃，相对空气湿度在80％以内。设备电源为单相电网电源，交流电压(220±22)V，频率(50±1)Hz。

本实用新型具有高效、低温、低损伤、操作简便、工作稳定性和适应性好等优点。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图。

具体实施方式

如图1所示。一种阴极镀膜设备，包括有T形壳体1，壳体1顶部敞口，底部连通有供等离子体射入的管口10，壳体1顶部敞口盖合有顶盖2，壳体1T形顶部两端外缠绕有螺线包14，壳体1T形顶部中对应螺线包14的两端内还分别设置有竖向屏蔽罩9，壳体1中从上到下依次设置有两层中间有位置对应的开孔的横向屏蔽罩8-1、8-2，其中上层的横向屏蔽罩8-1开孔中安装有支架7，壳体1中靠近底部管口10位置设置有与下层横向屏蔽罩8-2的开孔位置对应的靶材6，壳体1T形顶部两端内还分别设置有灯丝11，灯丝11位于横向屏蔽罩8-1、8-2两端，且灯丝11与对应位置的竖向屏蔽罩9之间还分别设置有罩在灯丝11外的半圆形屏蔽罩12，从上层的横向屏蔽罩8-1、靶材6及半圆形屏蔽罩12上分别连接有导线13，导线13从壳体1底部引出。

顶盖2顶部安装有阀门4。下层的横向屏蔽罩8-2开孔中安装有可取下的挡板5。顶盖2和壳体顶部敞口之间设置有密封垫片3。