[实用新型]含银低辐射玻璃有效

专利信息
申请号: 201020503102.2 申请日: 2010-08-24
公开(公告)号: CN201825868U 公开(公告)日: 2011-05-11
发明(设计)人: 陈可明;曾小绵 申请(专利权)人: 中国南玻集团股份有限公司
主分类号: C03C17/36 分类号: C03C17/36
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 何平
地址: 518047 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 含银低 辐射 玻璃
【说明书】:

【技术领域】

实用新型涉及特种玻璃领域,尤其涉及一种含银低辐射玻璃。 

【背景技术】

低辐射玻璃是一种在玻璃表面沉积一层红外线反射材料,使太阳光中的可见光能够透过,又像红外线反射镜一样,将太阳光中的红外线排除在外同时将物体二次辐射热反射回去的特种玻璃。通过使用低辐射玻璃,可以达到控制阳光、节约能源、热量控制调节及改善环境的效果。 

在传统的低辐射玻璃加工过程中,为了能实现较好的U值和选择系数Lsg,就必须增加膜层中的银层厚度来降低玻璃膜层的辐射率,以得到理想的选择系数,但是增加银层厚度就意味着可见光透过率降低、外观颜色呈现干扰色,影响玻璃的使用。 

【实用新型内容】

基于此,有必要提供一种可见光透过率高、外观不呈现干扰色的含银低辐射玻璃。 

一种含银低辐射玻璃,膜层结构依次为:玻璃基片、基层电介质组合层、第一银层、第一阻挡层、第一隔层电介质组合层、第二银层、第二阻挡层、第二隔层电介质组合层、第三银层、第三阻挡层、第三隔层电介质组合层、第四银层、第四阻挡层、上层电介质组合层。 

优选的,所述基层电介质组合层厚度为25~27nm。 

优选的,所述第一阻挡层、第二阻挡层、第三阻挡层、第四阻挡层厚度为0.25~0.3nm。 

优选的,所述第一隔层电介质组合层厚度为67~69nm;所述第二隔层电介质组合层厚度为69~71nm;所述第三隔层电介质组合层厚度为71~73nm。 

优选的,所述上层电介质组合层厚度为24~27nm。 

优选的,所述第一银层、第二银层、第三银层、第四银层在厚度上满足:第一银层厚度小于第二银层、第二银层厚度小于第三银层、第三银层厚度小于第四银层。 

更优选的,所述第一银层厚度为7~8nm;第二银层厚度为11~12nm;第三银层厚度为12~13nm;第四银层厚度为13~14nm。 

优选的,所述上层电介质组合层包括沉积于所述第四阻挡层上的第一上层电介质组合层和沉积于所述第一上层电介质组合层上的第二上层电介质组合层。 

优选的,所述第一上层电介质组合层的厚度为15~16nm。 

优选的,所述第二上层电介质组合层的厚度为9~11nm。 

这种含银低辐射玻璃在传统的以银为红外反射膜层的低辐射玻璃中增加银层、阻挡层和电介质层组合层,这样使得银层厚度分散并由电介质层组合层承载遮挡,增加银层厚度的同时可见光透过率高,并且外观不呈现干扰色。 

【附图说明】

图1为一实施方式含银低辐射玻璃结构示意图; 

图2为一实施方式含银低辐射玻璃的制造流程图。 

【具体实施方式】

如图1所示的一种含银低辐射玻璃,包括依次排列的如下结构:玻璃基片、基层电介质组合层、第一银层、第一阻挡层、第一隔层电介质组合层、第二银层、第二阻挡层、第二隔层电介质组合层、第三银层、第三阻挡层、第三隔层电介质组合层、第四银层、第四阻挡层、上层电介质组合层。 

优选的,基层电介质组合层、第一隔层电介质组合层、第二隔层电介质组 合层、第三隔层电介质组合层、上层电介质组合层由TiO2、ZnSnOx、SnO2、ZnO、SiO2、Ta2O5、BiO2、Al2O3、ZnAl2O4、Nb2O5和Si3N4中的一种或几种构成;第一阻挡层、第二阻挡层、第三阻挡层、第四阻挡层由Ni、Cr、NiCrOx和NiCrNx中的一种或几种构成。 

优选的,基层电介质组合层厚度为25~27nm;第一阻挡层、第二阻挡层、第三阻挡层、第四阻挡层厚度为0.25~0.3nm;第一隔层电介质组合层厚度为67~69nm;第二隔层电介质组合层厚度为69~71nm;第三隔层电介质组合层厚度为71~73nm;上层电介质组合层厚度为24~27nm。 

优选的,四银层厚度上要求第一银层厚度小于第二银层、第二银层厚度小于第三银层、第三银层厚度小于第四银层。四层银层厚度总和约为43nm~47nm之间,其各银层厚度关系满足产品外观颜色如下表内的颜色值范围: 

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