[实用新型]碲隔汞晶片溶剂溶液自动化清洗的动态装置

说明书

技术领域

本专利涉及光电器件制造工艺技术，具体指碲隔汞晶片溶剂溶液自动化清洗的动态装置。 

背景技术

碲隔汞红外探测器在研制过程中步骤繁多，其工艺涉及到表面处理、介质膜、光刻、P-N成结、腐蚀、金属电极、互连等一系列工艺，而且每道工艺都要进行溶剂溶液清洗过程。碲隔汞是一种脆性半导体材料，对其样品的拿取和溶剂溶液清洗的方式及其重要。传统的操作方法用金属镊子夹取在溶剂溶液中通过超声波震荡方法或者手动晃荡方法来清洗。 

随着碲隔汞红外探测器研制的发展，特别是表面处理工艺，芯片的溶剂溶液清洗已经成为非常关键的工艺技术之一。由于传统的工艺发生了很多工艺上问题，采用溶剂溶液清洗的动态模式改善表面质量尤其重要，在某些较为敏感的工艺中，还需要专门的化学溶剂来满足要求。因此，应用一项符合碲隔汞溶剂溶液清洗的动态装置对表面处理工艺要求是十分重要的。 

对于碲隔汞晶片溶剂溶液清洗，困难在于超声波震荡方法容易使样品碎裂；手动晃荡方法由于是人为操作，不具有稳定性和重复性，晃动次数有限，难以对晶片表面沾物进行彻底清洗，不能保证每次清洗的一致性；并且这两种方法对碲隔汞晶片的成品率都受到很大的影响。 

发明内容

基于上述已有技术存在的问题，本专利的目的是要提出晶片在溶剂溶液中 动态作用下的一种清洗装置，通过该装置来解决已有清洗中存在的问题。 

本专利的碲隔汞晶片溶剂溶液自动化清洗的动态装置其特点在于： 

1.晶片松舒自由地放置于聚四氟乙烯多孔花篮里。 

2.通过聚四氟乙烯多孔花篮，晶片在有机溶液或无机溶液里做上下运动。 

3.使用的有机或无机溶液又处于恒温水槽中恒定温度。 

4.聚四氟乙烯多孔花篮通过机械结构连接于电机形成自动化运动状态，清洗过程达到有效的一致性和重复性。 

本专利的装置，包括：滑槽1，驱动板2，平衡连接杆3，滑块4，石英烧杯5，有机或无机清洗溶液6，固定架7，恒温水浴8，恒温水槽9，拨盘10，拨杆11，力臂杆12，直流电机13，直流调速电源14，导轨15，主杆架16，花篮手柄17，HgCdTe晶片18，聚四氟乙烯多孔花篮19。 

所说的聚四氟乙烯多孔花篮螺接在花篮手柄的下端101；为使花篮手柄的卸取方便，花篮手柄的上端与力臂杆的一端呈90°的弹性衔接201，这样，聚四氟乙烯多孔花篮通过花篮手柄垂吊在力臂杆上。为了承载聚四氟乙烯多孔花篮里被清洗HgCdTe晶片的数量多或少，可以根据需要更换力臂杆的长短。力臂杆的另一端螺接301在滑块上，滑块带动力臂杆在导轨上垂直上下移动，为了使滑块平稳移动两端固定在平衡连接杆401上。平衡连接杆的另端与驱动板固定衔接501。 

所说的主杆架是一个弓字形结构，下端通过固定架紧套在恒温水槽9上，整个装置不会因为偏重而倾斜。上端固定直流电机。 

启动直流电机拨盘转动，带动拨杆作圆周运动，由于拨杆被套在驱动板的滑槽内，所以带动驱动板作上下运动。所说的滑槽，滑槽的长短可根据聚四氟乙烯多孔花篮上下移动时被清洗晶片不露出石英烧杯液面的原则设计而成，滑 槽越长，上下移动的距离越大，反之，距离变小。 

本专利通过以上构造连接形成一个上下移动的动态模式，以至于达到清洗目的。也就形成了碲隔汞晶片溶剂溶液自动化清洗的动态装置。 

本专利碲隔汞晶片溶剂溶液自动化清洗的动态装置的优点是： 

1.由于碲隔汞晶片竖立于花篮中间，有机或无机溶液通过多孔花篮流畅的冲浪，达到全面清洗的目的。 

2.由于电机频率的一致，可以保证工艺的可靠性和可重复性。 

3.由于碲隔汞晶片有大有小，聚四氟乙烯多孔花篮可随意更换大小。 

4.由于聚四氟乙烯多孔花篮的可换性，力臂杆的长短也随之可换。 

附图说明

图1为本专利的碲隔汞晶片溶剂溶液清洗自动化动态装置正面结构示意图。 

图2为本专利的碲隔汞晶片溶剂溶液清洗自动化动态装置侧面结构示意图。 

具体实施方法 

有机或无机清洗溶液6灌入石英烧杯5，石英烧杯置于恒温水槽9水浴8中。将碲隔汞晶片18竖立于聚四氟乙烯多孔花篮19中浸入灌有溶剂的石英烧杯内，接通直流调速电源14启动直流电机13带动拨盘10拨杆11在滑槽1内作圆周运动，滑块在导轨15内上下移动，聚四氟乙烯多孔花篮通过花篮手柄17、力臂杆12、滑块4、滑槽1等部件连接上下提拉运动，达到动态清洗的目的。 

本专利的碲隔汞晶片溶剂溶液自动化清洗的动态装置，已经成功用于碲隔汞红外探测器研制工艺中。