[实用新型]图案化雾面转印膜结构

权利要求书

1.一种图案化雾面转印膜结构，其特征在于包括：

一基底薄膜层，包括一由微粒子构成的抗眩光剂，使该基底薄膜层具有一凹凸粗糙的上表面；

一遮蔽层，覆盖于该基底薄膜层的上表面的局部区域，该遮蔽层具有一光滑的上表面，以于该基底薄膜层的上表面形成一光面图案；

一离型层，设置于该基底薄膜层以及该遮蔽层的上表面；

一硬化膜层，设置于该离型层的上表面；

一饰纹层，设置于该硬化膜层的上表面；以及

一黏着膜层，设置于该饰纹层的上表面。

2.根据权利要求1所述的图案化雾面转印膜结构，其特征在于，该抗眩光剂的微粒子的粒径为0.1微米至20微米。

3.根据权利要求1所述的图案化雾面转印膜结构，其特征在于，该抗眩光剂的微粒子为氧化硅、氧化钛、碳黑、碳酸钙、滑石以及氧化钡中的一种陶瓷材料。

4.根据权利要求1所述的图案化雾面转印膜结构，其特征在于，该遮蔽层的厚度为2微米至10微米。

5.根据权利要求1所述的图案化雾面转印膜结构，其特征在于，该遮蔽层的材料为聚胺酯系树脂、环氧系树脂、压克力系树脂、聚醚系树脂、聚酰胺系树脂、聚醋酸纤维素系树脂、聚苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚亚胺系树脂、聚二醚酮系树脂、聚醚砜系树脂、聚砜系树脂、胺基甲酸酯丙烯酸酯系树脂、丙烯氰酯系树脂、异氰酸酯中的一种。

6.一种图案化雾面转印膜结构，其特征在于包括：

一基底薄膜层，包括一由微粒子构成的抗眩光剂，使该基底薄膜层具有一凹凸粗糙的上表面；

一遮蔽层，覆盖于该基底薄膜层上表面的局部区域，该遮蔽层具有一光滑的上表面，以于该基底薄膜层的上表面形成一光面图案；

一离型层，设置于该基底薄膜层以及该遮蔽层的上表面；

一第一硬化膜层，设置于该离型层的上表面；

一饰纹层，设置于该第一硬化膜层的上表面；

一第二硬化膜层，设置于该饰纹层的上表面；以及

一黏着膜层，设置于该第二硬化膜层的上表面。

7.根据权利要求6所述的图案化雾面转印膜结构，其特征在于，该抗眩光剂微粒子的粒径为0.1微米至20微米。

8.根据权利要求6所述的图案化雾面转印膜结构，其特征在于，该抗眩光剂微粒子为氧化硅、氧化钛、碳黑、碳酸钙、滑石以及氧化钡中的一种陶瓷材料。

9.根据权利要求6所述的图案化雾面转印膜结构，其特征在于，该遮蔽层的厚度为2微米至10微米。

10.根据权利要求6所述的图案化雾面转印膜结构，其特征在于，该遮蔽层的材料为自由聚胺酯系树脂、环氧系树脂、压克力系树脂、聚醚系树脂、聚酰胺系树脂、聚醋酸纤维素系树脂、聚苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚亚胺系树脂、聚二醚酮系树脂、聚醚砜系树脂、聚砜系树脂、胺基甲酸酯丙烯酸酯系树脂、丙烯氰酯系树脂、异氰酸酯中的一种。