[发明专利]宽探测波段的InGaAs红外探测器无效

专利信息
申请号: 201010604144.X 申请日: 2010-12-24
公开(公告)号: CN102130200A 公开(公告)日: 2011-07-20
发明(设计)人: 缪国庆;金亿鑫;宋航;蒋红;黎大兵;李志明;孙晓娟;陈一仁 申请(专利权)人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
主分类号: H01L31/101 分类号: H01L31/101;H01L31/105;H01L31/0304
代理公司: 长春菁华专利商标代理事务所 22210 代理人: 陶尊新
地址: 130033 吉*** 国省代码: 吉林;22
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摘要:
搜索关键词: 探测 波段 ingaas 红外探测器
【权利要求书】:

1.宽探测波段的InGaAs红外探测器,其特征是,在n型InP衬底上依次生长3μm非故意掺杂的In0.82Ga0.18As作为i层、InP缓冲层、1μm掺Zn的InP外延层,形成pin探测器结构。

2.根据权利要求1所述的宽探测波段的InGaAs红外探测器,其特征在于,所述生长3μm非故意掺杂的In0.82Ga0.18As的生长温度为520℃~550℃。

3.根据权利要求2所述的宽探测波段的InGaAs红外探测器,其特征在于,所述生长3μm非故意掺杂的In0.82Ga0.18As的生长温度为550℃。

4.根据权利要求1所述的宽探测波段的InGaAs红外探测器,其特征在于,生长InP缓冲层的温度为420℃~450℃。

5.根据权利要求4所述的宽探测波段的InGaAs红外探测器,其特征在于,生长InP缓冲层的温度为430℃。?

6.根据权利要求1所述的宽探测波段的InGaAs红外探测器,其特征在于,生长1μm掺Zn的InP外延层之前,生长温度升至580℃恒温3-5分钟后进行生长。

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